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1. (WO2012041351) DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING MATERIAL BY MEANS OF FOCUSED ELECTROMAGNETIC RADIATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/041351    International Application No.:    PCT/EP2010/005976
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 30.09.2010
IPC:
B23K 26/04 (2006.01), B23K 26/06 (2006.01)
Applicants: WAVELIGHT GMBH [DE/DE]; Am Wolfsmantel 5 91058 Erlangen (DE) (For All Designated States Except US).
WARM, Berndt [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RIEDEL, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GORSCHBOTH, Claudia [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WOITTENNEK, Franziska [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: WARM, Berndt; (DE).
RIEDEL, Peter; (DE).
GORSCHBOTH, Claudia; (DE).
WOITTENNEK, Franziska; (DE)
Agent: KATÉRLE, Axel; Wuesthoff & Wuesthoff Schweigerstrasse 2 81541 München (DE)
Priority Data:
Title (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN FÜR DIE BEARBEITUNG VON MATERIAL MIT FOKUSSIERTER ELEKTROMAGNETISCHER STRAHLUNG
(EN) DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING MATERIAL BY MEANS OF FOCUSED ELECTROMAGNETIC RADIATION
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT D'UNE MATIÈRE AU MOYEN D'UN RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE FOCALISÉ
Abstract: front page image
(DE)Eine Vorrichtung für die Bearbeitung von Material (M) mit fokussierter elektromagnetischer Strahlung, weist auf: eine Quelle (10), die elektromagnetische Strahlung (12) emittiert, Mittel (14, 16, 18, 22, 26) zum Richten der Strahlung auf das Material (M), Mittel (28) zum Fokussieren der Strahlung auf oder in dem Material (M), eine Einrichtung (20) zum Erzeugen eines Musters (32) in dem Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung, eine zumindest teil reflektierende Fläche (30) im Strahlengang vor dem Fokus (F) der fokussierten Strahlung, wobei das genannte Muster (32) über zumindest einen Teil der genannten Mittel zum Richten und der genannten Mittel zum Fokussieren auf der genannten zumindest teilreflektierenden Fläche (30) abgebildet wird, zumindest einen Detektor (D1, D2) auf den ein Bild des Musters (32) von der genannten Fläche (30) reflektiert wird und der dem genannten Bild entsprechende elektrische Signale erzeugt, wobei das Bild eine Information über die Lage des Fokus (F) enthält, einen Rechner (C), der die genannten elektrischen Signale empfängt und der programmiert ist, das genannte Bild zu verarbeiten, um ein von der Fokuslage abhängiges elektrisches Signal (34) zu erzeugen, und ein Divergenzstellelement (18), das in dem genannten Strahlengang angeordnet und eingerichtet ist, das genannte elektrische Signal (34) des Rechners (10) zu empfangen, um eine Divergenz der elektromagnetischen Strahlung in Abhängigkeit von dem Signal zu ändern.
(EN)The invention relates to a device for processing material (M) by means of focused electromagnetic radiation comprising: a source (10), which emits electromagnetic radiation (12), means (14, 16, 18, 22, 26) for directing the radiation at the material (M), means (28) for focusing the radiation on or in the material (M), an apparatus (20) for producing a pattern (32) in the beam path of the electromagnetic radiation, an at least partially reflective surface (30) in the beam path in front of the focus (F) of the focused radiation, wherein said pattern (32) is imaged on said at least partially reflective surface (30) by means of at least some of said means for directing the radiation and said means for focusing the radiation, at least one detector (D1, D2), onto which an image of the pattern (32) of said surface (30) is reflected and which produces electrical signals corresponding to said image, wherein the image contains a piece of information about the position of the focal point (F), a computer (C), which receives said electrical signals and which is programmed to process said image in order to generate an electrical signal (34) that depends on the position of the focal point, and a divergence setting element (18), which is arranged in said beam path and designed to receive said electrical signal (34) of the computer (10) in order to change a divergence of the electromagnetic radiation according to the signal.
(FR)L'invention porte sur un dispositif servant à traiter une matière (M) au moyen d'un rayonnement électromagnétique focalisé, qui comprend : une source (10) qui émet le rayonnement électromagnétique (12), des moyens (14, 16, 18, 22, 26) servant à projeter le rayonnement sur la matière (M), des moyens (28) servant à focaliser le rayonnement sur ou dans la matière (M), un appareil (20) servant à produire une figure (32) dans le faisceau du rayonnement électromagnétique, et une surface au moins partiellement réfléchissante (30) placée sur le trajet du faisceau, en amont du foyer (F) du rayonnement focalisé, ladite figure (32) étant formée sur au moins une partie desdits moyens de projection et lesdits moyens de focalisation étant représentés sur ladite surface au moins partiellement réfléchissante (30), au moins un détecteur (D1, D2) sur lequel une image de la figure (32) est réfléchie par ladite surface (30) et produit ladite image des signaux électriques correspondants, l'image contenant une information relative à la position du foyer (F), un calculateur (C) qui reçoit lesdits signaux électriques et qui est programmé pour traiter ladite image, pour produire un signal électrique (34) en fonction de la position du foyer, et un élément (18) de réglage de la divergence qui est disposé et agencé sur ledit trajet du faisceau, pour recevoir ledit signal électrique (34) du calculateur (10) afin de modifier une divergence du rayonnement électromagnétique en fonction du signal.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)