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1. (WO2012041341) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2012/041341    International Application No.:    PCT/EP2010/005949
Publication Date: 05.04.2012 International Filing Date: 30.09.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
GRÄUPNER, Paul [DE/DE]; (DE) (For US Only).
CONRADI, Olaf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ZACZEK, Christoph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BEIERL, Helmut [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRUNER, Toralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GRÄSCHUS, Volker [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: GRÄUPNER, Paul; (DE).
CONRADI, Olaf; (DE).
ZACZEK, Christoph; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
BEIERL, Helmut; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
GRÄSCHUS, Volker; (DE)
Agent: RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Patentanwälte Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart (DE)
Priority Data:
Title (EN) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE METHOD
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Abstract: front page image
(EN)A projection exposure system comprises an illumination system (ILL) configured to receive primary radiation with operating wavelength λ generated by a primary radiation source (S) and to form the primary radiation to generate illumination radiation incident on a mask (M) providing a prescribed pattern (PAT) and a projection objective (PO) configured to project an image of the pattern arranged in an object surface (OS) of the projection objective onto a radiation-sensitive substrate (W) arranged in an image surface (IS) of the projection objective at an image-side numerical aperture NA. An angle-selective filter arrangement (FA) is arranged at or close to a field surface of the projection objective in a projection beam path optically downstream of the object surface. The angle- selective filter arrangement is effective to filter radiation incident on the filter arrangement according to an angle-selective filter function. The filter function comprises a pass band (PB) with relatively high transmittance of intensity of incident radiation for angles of incidence smaller than a cut-off angle of incidence AOICUT, and a stop band (SB) with relatively low transmittance of intensity of incident radiation for angles of incidence greater than the cut-off angle of incidence AOICUT. The condition AOICUT = arcsin (NA * | β | ) holds, with β being a magnification of an image formation between the field surface at or adjacent to the filter plane and the image surface of the projection objective.
(FR)La présente invention concerne un système d'exposition par projection qui comprend un système d'éclairage (ILL) conçu pour recevoir un rayonnement primaire présentant une longueur d'onde de fonctionnement λ générée par une source de rayonnement primaire (S) et pour former le rayonnement primaire afin de générer un rayonnement d'éclairage incident sur un masque (M) formant un motif prescrit (PAT) et un objectif de projection (PO) conçu pour projeter une image du motif disposé dans une surface d'objet (OS) de l'objectif de projection sur un substrat sensible au rayonnement (W) disposé dans une surface d'image (IS) de l'objectif de projection à une ouverture numérique NA du côté image. Un agencement de filtre (FA) à sélection angulaire est disposé sur ou à proximité d'une surface de champ de l'objectif de projection dans un trajet de faisceau de projection optiquement en aval de la surface de l'objet. L'agencement dudit filtre est efficace pour filtrer le rayonnement incident sur l'agencement de filtre selon une fonction de filtre à sélection angulaire. La fonction de filtre comprend un passe-bande (PB) présentant une transmittance relativement élevée de l'intensité du rayonnement incident pour des angles d'incidence plus petits qu'un angle mort d'incidence AOICUT, et une bande affaiblie (SB) présentant une transmittance relativement faible de l'intensité du rayonnement incident pour des angles d'incidence plus grands que l'angle mort d'incidence AOICUT. La condition AOICUT = arcsin (NA * | β | ) est vraie, β étant un agrandissement d'une formation d'image entre la surface de champ sur ou de façon adjacente au plan du filtre et à la surface d'image de l'objectif de projection.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)