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1. (WO2011158808) INDUCTIVELY COUPLED PLASMA GENERATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/158808    International Application No.:    PCT/JP2011/063539
Publication Date: 22.12.2011 International Filing Date: 13.06.2011
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/507 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 16-5, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1088215 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUDA Ryuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIKAWA Seiji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUDA Ryuichi; (JP).
NISHIKAWA Seiji; (JP)
Agent: MITSUISHI Toshiro; Mitsuishi Law and Patent Office, 9-15, Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Priority Data:
2010-138973 18.06.2010 JP
Title (EN) INDUCTIVELY COUPLED PLASMA GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF
(JA) 誘導結合プラズマ発生装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is an inductively coupled plasma generation device capable of having both a wide matching range and reduced loss. An inductively coupled plasma generation device in which high harmonic waves from a high harmonic wave power source (11) are supplied to an antenna (14) by way of a matching device (12) which matches impedance, and plasma is generated in a vacuum vessel by electromagnetic waves from the antenna (14), wherein an L-type matching circuit is used as the matching device (12) and a capacitor (C3) is provided parallel to the antenna (14) at a position closer to the antenna (14) than capacitors (C1, C2) in the L-type matching circuit.
(FR)L'invention concerne un dispositif de génération de plasma à couplage inductif permettant à la fois une large plage d'adaptation et une réduction des pertes. Plus précisément, l'invention concerne un dispositif de génération de plasma à couplage inductif dans lequel une antenne (14) est alimentée en haute fréquence provenant d'une source d'énergie haute fréquence (11) par l'intermédiaire d'une boîte d'adaptation (12) qui adapte une impédance, et un plasma est formé à l'intérieur d'un réservoir de vide à l'aide d'une onde électromagnétique provenant de l'antenne (14). D'autre part, un circuit d'adaptation en forme de L est mis en œuvre en tant que boîte d'adaptation (12), et un condensateur (C3) est agencé en parallèle avec l'antenne (14) en une position plus proche de l'antenne (14) que des condensateurs (C1, C2) appartenant à ce circuit d'adaptation en forme de L.
(JA)広い整合範囲と損失の低減の両立が可能な誘導結合プラズマ発生装置を提供する。そのため、高周波電源(11)からの高周波を、インピーダンスを整合させる整合器(12)を介して、アンテナ(14)に供給し、アンテナ(14)からの電磁波により、真空容器内にプラズマを生成する誘導結合プラズマ発生装置において、整合器(12)としてL型整合回路を用いると共に、当該L型整合回路中のコンデンサ(C1,C2)よりアンテナ(14)に近い位置に、アンテナ(14)と並列にコンデンサ(C3)を設けた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)