WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2011158760) EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/158760    International Application No.:    PCT/JP2011/063407
Publication Date: 22.12.2011 International Filing Date: 10.06.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NSK Technology Co., Ltd. [JP/JP]; 6-3, Ohsaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (For All Designated States Except US).
HAYASHI Shinichiro; (For US Only).
KIRIU Yasutaka; (For US Only).
TOGAWA Satoru; (For US Only).
MATSUZAKA Masaaki; (For US Only)
Inventors: HAYASHI Shinichiro; .
KIRIU Yasutaka; .
TOGAWA Satoru; .
MATSUZAKA Masaaki;
Agent: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2010-138505 17.06.2010 JP
2010-138506 17.06.2010 JP
2010-142856 23.06.2010 JP
2011-122231 31.05.2011 JP
2011-122232 31.05.2011 JP
2011-122233 31.05.2011 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 露光装置
Abstract: front page image
(EN)A mask stage (10) is provided with: a mask stage base (11); four mask holders (71, 72) with the ability to adhere to and hold each edge of a mask (M); linear guides (73) disposed between a pair of mask holders (72) that adhere to and hold the side of the mask stage base (11) and the short sides of the mask (M); a drive mechanism (74) that forces the mask holders (72) to move on the short side; and a tilt angle adjustment mechanism (80) that is disposed between the side of the mask stage base (11) and the sides of the mask holders (72), and has the ability to adjust the tilt angle of the mask (M). This configuration enables a plurality of masks of different sizes to be accommodated in a state in which flatness is kept constant.
(FR)L'invention concerne une platine de masque (10) pourvue : d'une base de platine de masque (11); de quatre supports de masques (71, 72) avec la capacité d'adhérer à chaque bord de masque (M) et de le retenir; des guides linéaires (73) disposés entre une paire de supports de masques (72) qui adhèrent au côté de la base de la platine du masque (11) et qui le retiennent, et les côtés courts du masque (M); un mécanisme d'entraînement (74) qui force les supports du masque (72) à se déplacer sur le côté court; et un mécanisme de réglage d'angle d'inclinaison (80) disposé entre le côté de la base de la platine du masque (11) et les côtés des supports du masque (72) et qui a la capacité de régler l'angle d'inclinaison du masque (M). Cette configuration permet à plusieurs masques de différentes tailles d'être adaptés dans un état dans lequel la planéité est maintenue constante.
(JA) マスクステージ10は、マスクステージベース11と、マスクMの各辺をそれぞれ吸着保持可能な4つのマスクホルダ71、72と、マスクステージベース11側とマスクMの短辺側を吸着保持する一対のマスクホルダ72との間にそれぞれ設けられるリニアガイド73と、短辺側のマスクホルダ72を移動させる駆動機構74と、マスクステージベース11側とマスクホルダ72側との間に設けられて、マスクMのあおり角を調整可能なあおり角調整機構80と、を備える。これにより、平坦度を一定に維持した状態で、サイズの異なる複数のマスクに対応することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)