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1. (WO2011158239) METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING OPTICAL INSPECTION OF PATTERNED STRUCTURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/158239    International Application No.:    PCT/IL2011/000479
Publication Date: 22.12.2011 International Filing Date: 16.06.2011
IPC:
G01B 15/04 (2006.01)
Applicants: NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Scientific Park P.O.B. 266 76100 Rehovot (IL) (For All Designated States Except US).
BRILL, Boaz [IL/IL]; (IL) (For US Only)
Inventors: BRILL, Boaz; (IL)
Agent: REINHOLD COHN AND PARTNERS; P.O.B. 13239 61131 Tel-Aviv (IL)
Priority Data:
61/355,571 17.06.2010 US
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING OPTICAL INSPECTION OF PATTERNED STRUCTURES
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR OPTIMISER L'INSPECTION VISUELLE DE STRUCTRURES À MOTIFS
Abstract: front page image
(EN)A system and method are presented for use in inspection of patterned structures. The system comprises: data input utility for receiving first type of data indicative of image data on at least a part of the patterned structure, and data processing and analyzing utility configured and operable for analyzing the image data, and determining a geometrical model for at least one feature of a pattern in said structure, and using said geometrical model for determining an optical model for second type of data indicative of optical measurements on a patterned structure.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé destinés à l'inspection de structures à motifs. Le système comprend : un dispositif d'entrée de données pour recevoir un premier type de données représentant des données d'image sur une partie au moins de la structure à motifs, et un dispositif de traitement et d'analyse de données conçu et actionnable pour analyser les données d'image et déterminer un modèle géométrique pour au moins une caractéristique d'un motif dans ladite structure, et pour utiliser ledit modèle géométrique afin de déterminer un modèle optique pour un second type de données représentant des mesures optiques sur une structure à motifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)