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1. (WO2011157424) APPARATUS FOR THE CONTINUOUS PLASMA TREATMENT AND/OR PLASMA COATING OF A PIECE OF MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/157424    International Application No.:    PCT/EP2011/002971
Publication Date: 22.12.2011 International Filing Date: 16.06.2011
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Applicants: WPNLB UG (HAFTUNGSBESCHRÄNKT) & CO. KG [DE/DE]; Sierichstr. 43 22301 Hamburg (DE) (For All Designated States Except US).
PALM, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: PALM, Peter; (DE)
Agent: VERWEYEN, Andreas; Müller Verweyen Friedensallee 290 22763 Hamburg (DE)
Priority Data:
10 2010 024 086.9 17.06.2010 DE
Title (DE) VORRICHTUNG ZUR KONTINUIERLICHEN PLASMABEHANDLUNG UND/ODER PLASMABESCHICHTUNG EINES MATERIALSTÜCKS
(EN) APPARATUS FOR THE CONTINUOUS PLASMA TREATMENT AND/OR PLASMA COATING OF A PIECE OF MATERIAL
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET/OU DE REVÊTEMENT AU PLASMA EN CONTINU D'UN MORCEAU DE MATIÈRE
Abstract: front page image
(DE)Eine Vorrichtung (10) zur kontinuierlichen Plasmabehandlung und/oder Plasmabeschichtung eines insbesondere bahn- oder plattenförmigen Materialstücks (12), umfasst eine auf einer ersten Seite (14) des Materialstücks (12) angeordnete Elektro denanordnung (24) und eine auf der anderen Seite (15) des Materialstücks (12) angeordnete Gegenelektrode (16), wobei mittels einer zwischen der Elektrodenanordnung (24) und der Gegenelektrode (16) anliegenden Hochspannung eine Plasmaentladung erzeugbar ist. Die Elektrodenanordnung (24) umfasst mindestens zwei Teilelektroden (13, 21), von denen mindestens eine als Barrierenelektrode (13) mit einem elektrisch leitfähigen Elektrodenkern (17) und einer dielektrischen Umhüllung (18) ausgeführt ist, wobei mittels einer zwischen den Teilelektroden (13, 21) angelegten Hochspannung eine weitere Plasmaentladung erzeugbar ist.
(EN)An apparatus (10) for the continuous plasma treatment and/or plasma coating of an, in particular, web- or plate-like piece (12) of material comprises an electrode arrangement (24) which is arranged on a first side (14) of the piece (12) of material, and a counterelectrode (16) which is arranged on the other side (15) of the piece (12) of material, wherein a plasma discharge can be generated by means of a high voltage which is applied between the electrode arrangement (24) and the counterelectrode (16). The electrode arrangement (24) comprises at least two electrode elements (13, 21), of which at least one is in the form of a barrier electrode (13) with an electrically conductive electrode core (17) and a dielectric casing (18), wherein a further plasma discharge can be generated by means of a high voltage which is applied between the electrode elements (13, 21).
(FR)La présente invention concerne un dispositif (10) de traitement au plasma et/ou de revêtement au plasma en continu d'un morceau de matière (12) notamment en forme de bande ou de plaque, ledit dispositif comprenant un agencement d'électrodes (24) disposé sur un premier côté (14) du morceau de matière (12), et une contre-électrode (16) disposée sur l'autre côté (15) du morceau de matière (12), une haute tension appliquée entre l'agencement d'électrodes (24) et la contre-électrode (16) permettant la production d'une décharge plasma. L'agencement d'électrodes (24) comprend au moins deux électrodes partielles (13, 21) dont au moins l'une est réalisée en tant qu'électrode barrière (13) comprenant un noyau d'électrode (17) électro-conducteur et une enveloppe (18) diélectrique, une autre décharge de plasma pouvant être produite au moyen d'une haute tension appliquée entre les électrodes partielles (13, 21).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)