WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/152235    International Application No.:    PCT/JP2011/061719
Publication Date: 08.12.2011 International Filing Date: 23.05.2011
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: THINK LABORATORY CO., LTD. [JP/JP]; 1201-11, Takada, Kashiwa-shi, Chiba 2778525 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIGETA, Tatsuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HORIUCHI, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIGETA, Tatsuo; (JP).
HORIUCHI, Hitoshi; (JP)
Agent: ISHIHARA, Shinsuke; c/o ISHIHARA & COMPANY, p.c., 2F Segawa-Ikebukuro Bldg., 14-10, Minami-Ikebukuro 2-chome, Toshima-ku, Tokyo 1710022 (JP)
Priority Data:
2010-129076 04.06.2010 JP
(JA) レーザ露光方法及び製品
Abstract: front page image
(EN)Provided is a high-resolution laser exposure method which can perform high-resolution laser plate-making for gravure plate-making, offset plate-making or flexo plate-making etc., and which can also be employed in, for example, special printing for the prevention of forgery of paper money and the like, or in the laser exposure of a circuit pattern for an electronic component such as a printed circuit board, liquid crystal display or plasma display and the like, and also provided is a product manufactured using the laser exposure method. A laser exposure device is employed in the exposure method in which, by scanning a laser beam, a row of laser spots is formed having a prescribed length in a photosensitive film, and the photosensitive film, which is applied to a plate surface, is exposed in order to form photosensitized portions and non-photosensitized portions. The scanning is performed sequentially, in which a subsequently scanned laser spot row is scanned and exposed in such a way that at least half of the region in the width direction of a previously scanned laser spot row is superimposed and exposed.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'exposition laser haute résolution permettant de réaliser un clichage laser haute résolution pour exécuter des plaques de gravure, de tirage offset, ou de flexographie, etc. Le procédé peut également servir, par exemple, en impression spéciale pour empêcher la contrefaçon de papier-monnaie et autres articles semblables, ou bien dans l'exposition laser d'un motif de circuit pour composant électronique tel qu'une carte de circuit imprimé, un afficheur à cristaux liquides, ou afficheur plasma et autres afficheurs. L'invention concerne également un produit fabriqué en utilisant le procédé d'exposition laser. Le procédé d'exposition utilise un dispositif d'exposition laser qui forme, par balayage d'un faisceau laser, une rangée de points laser de longueur prescrite dans un film photosensible, ce film photosensible, appliqué sur une surface de plaque, étant exposé afin de former des parties sensibles et des parties non sensibles. Le balayage est réalisé de manière séquentielle, une rangée de point laser subséquemment balayée étant balayée et exposée de manière telle qu'au moins une moitié de la région dans la direction de la largeur d'une rangée de point laser précédemment balayée est surimposée et exposée.
(JA) グラビア製版、オフセット製版、フレキソ製版等における高解像度のレーザ製版を行うことができ、更には、プリント基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の電子部品における回路パターンのレーザ露光や紙幣等における偽造防止用特殊印刷等にも用いることのできる高解像度のレーザ露光方法及びそれを用いて製造された製品を提供する。 レーザ露光装置を用い、レーザビームを走査させることで、該感光膜に所定長を有するレーザスポット列を形成し、版面に塗布された感光膜を露光して感光される部分と感光されない部分とを形成するための露光方法であり、相前後する走査において、先に走査されたレーザスポット列の幅方向の少なくとも半分の領域が重複露光されるように後のレーザスポット列を走査して露光するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)