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1. (WO2011152163) ROLLED SHEET OF CU-CO-SI COPPER ALLOY AND ELECTRICAL COMPONENT COMPRISING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/152163    International Application No.:    PCT/JP2011/060207
Publication Date: 08.12.2011 International Filing Date: 27.04.2011
IPC:
C22C 9/06 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), C22C 9/02 (2006.01), C22C 9/04 (2006.01), C22C 9/05 (2006.01), C22C 9/10 (2006.01), H01B 1/02 (2006.01), H01B 5/02 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01), C22F 1/08 (2006.01)
Applicants: JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP) (For All Designated States Except US).
MAEDA Naofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MAEDA Naofumi; (JP)
Agent: AKAO Kenichiro; 4kai, Kyobashi-Nichiei Biru, 3-4, Kyobashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2010-127432 03.06.2010 JP
Title (EN) ROLLED SHEET OF CU-CO-SI COPPER ALLOY AND ELECTRICAL COMPONENT COMPRISING SAME
(FR) TÔLE LAMINÉE D'ALLIAGE DE CUIVRE CU-CO-SI ET COMPOSANT ÉLECTRIQUE COMPRENANT LADITE TÔLE
(JA) Cu-Co-Si系銅合金圧延板及びそれを用いた電気部品
Abstract: front page image
(EN)Provided is a rolled Cu-Co-Si copper alloy sheet which has excellent workability by pressing, bendability, and strength. The rolled Cu-Co-Si copper alloy sheet contains 0.5-3.0 mass% Co and 0.1-1.0 mass% Si, with the remainder comprising Cu and incidental impurities. When the sheet is examined by X-ray diffractometry for crystal orientation in the range of from the surface of the sheet to a depth of 5 µm therefrom, the sheared texture in an area which corresponds to the α=0-10º region on the {111} normal pole figure (where α is an axis which is perpendicular to the rotation axis of the goniometer for diffraction defined in the Schlutz method) has a pole density of 1.5-8.
(FR)L'invention concerne une tôle laminée d'alliage de cuivre Cu-Co-Si qui possède d'excellentes propriétés en termes d'aptitude au façonnage par compression, d'aptitude au pliage et de résistance. Ladite tôle laminée contient 0,5-3,0 % en masse de Co et 0,1-1,0 % en masse de Si, le solde étant du Cu et les impuretés accidentelles. Quand l'orientation des cristaux de la tôle est examinée par diffractométrie des rayons X sur une profondeur de 5 µm depuis la surface de la feuille, la texture de cisaillement dans une zone qui correspond à la région α = 0-10º sur la figure de pôles perpendiculaire au plan {111} (où α est un axe perpendiculaire à l'axe de rotation du goniomètre pour la diffraction définie dans la méthode de Schlutz) a une densité de pôles de 1,5-8.
(JA)本発明は、プレス加工性、曲げ加工性及び強度に優れたCu-Co-Si系銅合金圧延板を提供するものである。上記Cu-Co-Si系銅合金圧延板は、Coを0.5~3.0質量%、Siを0.1~1.0質量%含有し、残部がCu及び不可避的不純物からなるものであって、X線回折法により板表面から5μmの深さまでの結晶方位を測定したとき、{111}正極点図上のα=0~10°(但し、α:シュルツ法に規定する回折用ゴニオメータの回転軸に垂直な軸)の領域に相当する、せん断集合組織の極密度が1.5以上8以下である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)