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1. (WO2011149690) PROTECTIVE STRUCTURE ENCLOSING DEVICE ON FLEXIBLE SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/149690    International Application No.:    PCT/US2011/036523
Publication Date: 01.12.2011 International Filing Date: 13.05.2011
IPC:
H05B 33/10 (2006.01), H01J 1/62 (2006.01)
Applicants: SYNOS TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 568 E. Weddell Drive, Suite #8 Sunnyvale, CA 94089 (US) (For All Designated States Except US).
LEE, Sang, In [KR/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LEE, Sang, In; (US)
Agent: AHN,Dohyun; Fenwick & West LLP 801 California Street Mountain View, CA 94041 (US)
Priority Data:
61/348,216 25.05.2010 US
Title (EN) PROTECTIVE STRUCTURE ENCLOSING DEVICE ON FLEXIBLE SUBSTRATE
(FR) STRUCTURE DE PROTECTION ENTOURANT UN DISPOSITIF SUR UN SUBSTRAT FLEXIBLE
Abstract: front page image
(EN)A structure for protecting a device includes a first layer, one or more first microstructures on the first layer, and a second layer disposed on the first layer. The second layer is disposed on a surface of the first layer on which one or more microstructures are provided. The microstructure may have a hemispheric shape or other random shapes having a curved surface. Since the area of the interface surface between layers is increased due to the at least one microstructure, the stress per unit area of the interface surface is reduced. Further, the microstructure increases the length of the path that ambient species need to travel in order to reach a device or other active components, thereby reducing the amount of infiltrating ambient species.
(FR)L'invention concerne une structure destinée à protéger un dispositif, la structure comprenant une première couche, une ou plusieurs premières microstructures sur la première couche et une seconde couche disposée sur la première couche. La seconde couche est disposée sur une surface de la première couche sur laquelle sont implantées une ou plusieurs microstructures. La microstructure peut avoir une forme hémisphérique ou d'autres formes aléatoires avec une surface courbe. Comme l'aire de l'interface entre les couches est augmentée à cause de la présence de ladite ou desdites microstructures, la contrainte par unité d'aire de l'interface est réduite. Par ailleurs, la microstructure augmente la longueur du trajet que les espèces ambiantes doivent parcourir pour atteindre un dispositif ou d'autres composants actifs, ce qui réduit la quantité d'espèces ambiantes qui s'infiltrent.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)