WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/148759    International Application No.:    PCT/JP2011/060445
Publication Date: 01.12.2011 International Filing Date: 28.04.2011
G02F 1/1341 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
FURUSAWA, Yasuhiro; (For US Only)
Inventors: FURUSAWA, Yasuhiro;
Agent: Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2010-121551 27.05.2010 JP
(JA) 液晶表示装置の製造方法
Abstract: front page image
(EN)The disclosed liquid crystal display device manufacturing method involves a step for forming on a substrate (200) a seal material (500) for sealing liquid crystal (170), and a step for adding dropwise, in a display area (210) on the substrate (200) surrounded by the seal material (500), liquid crystal (170) on a drip position pattern configured from multiple points separated by a prescribed interval and positioned on multiple parallel lines segments from one end to the other end. Further, the liquid crystal display device manufacturing method involves a step for bonding in a vacuum the substrate (200) and an opposing substrate (290), and a step for curing the seal material (500). In the step for adding the liquid crystal (170) dropwise, although the liquid crystal (170) is dripped without changing the prescribed drip position pattern on the display region (210) on the whole, the amount of liquid crystal (170) dripped in the corners of the drip position pattern is greater than that dripped in the center area. By means of this configuration, it is possible to shorten the manufacturing cycle time while making the gap between substrates uniform.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de dispositif d'affichage à cristaux liquides qui comprend une étape de formation, sur un substrat (200), d'un matériau d'étanchéité (500) pour rendre étanche du cristal liquide (170) et une étape d'ajout, goutte à goutte, dans une zone d'affichage (210) située sur le substrat (200) entouré du matériau d'étanchéité (500), du cristal liquide (170) sur un motif de position d'écoulement goutte à goutte conçu à partir de multiples points séparés par un intervalle prescrit et positionné sur de multiples segments de ligne parallèles d'une extrémité à l'autre. En outre, le procédé de fabrication de dispositif d'affichage à cristaux liquides comprend une étape de liaison, dans un vide, du substrat (200) et d'un substrat (290) lui faisant face, et une étape de durcissement du matériau d'étanchéité (500). Dans l'étape d'ajout du cristal liquide (170) goutte à goutte, bien que le cristal liquide (170) s'écoule goutte à goutte sans modifier le motif de position d'écoulement goutte à goutte sur la région d'affichage (210) sur l'ensemble, la quantité de cristal liquide (170) qui s'est écoulée dans les coins du motif de position d'écoulement goutte à goutte est supérieure à celle qui s'est écoulée dans la zone du milieu. L'utilisation de cette configuration permet de raccourcir la durée du cycle de fabrication tout en uniformisant l'espace entre les substrats.
(JA) 液晶表示装置の製造方法は、液晶(170)を封止するためのシール材(500)を基板(200)上に形成する工程と、シール材(500)で囲まれた基板(200)上の表示領域(210)において、互いに平行な複数の線分のそれぞれの一端から他端までの間で所定の間隔を置いて位置する複数のポイントから構成される滴下位置パターン上に液晶(170)を滴下する工程とを備えている。また、液晶表示装置の製造方法は、基板(200)と対向基板(290)とを真空中で貼り合せる工程と、シール材(500)を硬化する工程とを備えている。液晶(170)を滴下する工程において、表示領域(210)の全体として所定の滴下位置パターンを変更することなく液晶(170)を滴下しつつ、液晶(170)の滴下量を滴下位置パターンの角部において中央部より多くする。この構成により、基板間のギャップを均一にしつつ、製造タクトタイムの短縮を図ることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)