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1. (WO2011148629) PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/148629    International Application No.:    PCT/JP2011/002908
Publication Date: 01.12.2011 International Filing Date: 25.05.2011
IPC:
H01L 21/68 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (For All Designated States Except US).
OKITA, Shogo; (For US Only).
MIYAKE, Sumio; (For US Only)
Inventors: OKITA, Shogo; .
MIYAKE, Sumio;
Agent: TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
Priority Data:
2010-121094 27.05.2010 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a plasma processing device (1) provided with a stock section (2), a processing chamber (5), and an alignment chamber (4). The stock section (2) supplies and recovers a transportable tray (7) in which wafers (W) are respectively accommodated in a plurality of accommodating holes (7a) that penetrate the tray (7) in the thickness direction. Plasma processing for the wafers (W) accommodated in the tray (7) supplied from the stock section (2) is carried out in the processing chamber (5). The alignment chamber (4) is provided with a rotary table (41) on which the tray (7) is mounted prior to plasma processing, and the wafers (W) are positioned on the rotary table (41). A wafer presence determination section (6a) of a control device (6) determines whether or not wafers (W) are present in the accommodating holes (7a) of the tray (7) mounted on the rotary table (41) in the alignment chamber (4), with said determination being performed in accordance with signals from wafer presence detection sensors (44A, 44B).
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement par plasma (1) qui comporte une section de stockage (2), une chambre de traitement (5) et une chambre d'alignement (4). La section de stockage (2) fournit et récupère un plateau mobile (7) sur lequel des plaquettes (W) sont logées dans des trous d'accueil respectifs (7a) qui pénètrent dans le plateau (7) dans la direction de l'épaisseur. Le traitement par plasma des plaquettes (W) reposant sur le plateau (7) fourni par la section de stockage (2) est réalisé dans la chambre de traitement (5). La chambre d'alignement (4) comporte une table tournante (41) sur laquelle le plateau (7) est monté avant le traitement par plasma, les plaquettes (W) étant positionnées sur la table tournante (41). Une section de détermination de la présence de plaquettes (6a) d'un dispositif de commande (6) détermine si des plaquettes (W) sont présentes dans les trous d'accueil (7a) du plateau (7) monté sur la table tournante (41) dans la chambre d'alignement (4), ladite détermination étant réalisée en fonction de signaux provenant de capteurs de présence de plaquettes (44A, 44B).
(JA)プラズマ処理装置(1)は、ストック部(2)、処理室(5)、及びアラインメント室(4)を備える。ストック部(2)は、厚み方向に貫通する複数の収容孔(7a)それぞれにウエハ(W)を収容した搬送可能なトレイ(7)を供給及び回収する。処理室(5)では、ストック部(2)から供給されるトレイ(7)に収容されたウエハ(W)に対してプラズマ処理が実行される。アラインメント室(4)はプラズマ処理前のトレイ(7)が載置される回転テーブル(41)を備え、この回転テーブル(41)上のウエハ(W)の位置決めが行われる。制御装置(6)のウエハ有無判定部(6a)は、ウエハ有無検出センサ(44A,44B)からの信号に基づいて、アライメント室(4)の回転テーブル(41)に載置されたトレイ(7)の各収容孔(7a)内にウエハ(W)が存在するか否かを判定する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)