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1. (WO2011147860) QUARTZ GLASS CRUCIBLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/147860    International Application No.:    PCT/EP2011/058530
Publication Date: 01.12.2011 International Filing Date: 25.05.2011
IPC:
C03B 19/09 (2006.01), C30B 15/10 (2006.01)
Applicants: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Quarzstrasse 8 63450 Hanau (DE) (For All Designated States Except US).
LEHMANN, Walter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KAYSER, Thomas [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: LEHMANN, Walter; (DE).
KAYSER, Thomas; (DE)
Agent: STAUDT, Armin; Sandeldamm 24a 63450 Hanau (DE)
Priority Data:
102010021694.1 27.05.2010 DE
Title (DE) QUARZGLASTIEGEL UND VERFAHREN FÜR DESSEN HERSTELLUNG
(EN) QUARTZ GLASS CRUCIBLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) CREUSET DE VERRE QUARTZEUX ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Abstract: front page image
(DE)Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Quarzglastiegels wird eine Vakuum-Schmelzform bereitgestellt, an deren Innenseite eine tiegeiförmige Körnungsschicht aus SiO2-Körnung ausgeformt wird, die einen Bodenbereich und einen Seitenwandbereich hat. Auf mindestens einem Teil der porösen Körnungsschicht wird eine Hautschicht aus blasenarmem Quarzglas ausgebildet. Durch Anlegen eines Unterdrucks werden gasförmige Komponenten mindestens aus einem Teil der an die Hautschicht angrenzenden Körnungsschicht entfernt, und die Körnungsschicht wird unter Bildung des Quarzglastiegels mit einer Tiegelhöhe H verglast. Um hiervon ausgehend einen Quarzglastiegel herzustellen, der den Ansetzprozess erleichtert und bei dem die Gefahr des Eintrags von Verunreinigungen in die Siliziumschmelze gering ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass in einem oberen Bereich der Körnungsschicht, der sich an den unteren Bereich anschließend bis zur vollen Höhe H erstreckt, beim Verglasen unterhalb der Hautschicht und an diese angrenzend eine Blasenzone erzeugt wird, die gasgefüllte Blasen mit einem spezifischen Blasenvolumen enthält, das mindestens doppelt so groß ist wie das spezifische Volumen gasgefüllter Blasen im blasenarmen Quarzglas, indem der Unterdruck nur oder überwiegend in einem unteren Bereich der Körnungsschicht angelegt wird, der sich vom Bodenbereich bis maximal dem 0,8-fachen der Tiegelhöhe H erstreckt.
(EN)In a known method for producing a quartz glass crucible, a vacuum fusion mould is provided, on the inside of which a crucible-shaped granular layer made of SiO2 granules is formed, which layer has a base region and a side wall region. A skin made of low-bubble quartz glass is formed on at least one part of the porous granular layer. Gaseous components are removed from at least one part of the granular layer adjoining the skin by applying a vacuum, and the granular layer is vitrified, forming the quartz glass crucible having a crucible height H. In order to, proceeding therefrom, produce a quartz glass crucible which makes the preparation process easier and in which the risk of contamination by impurities in the silicon melt is low, according to the invention a bubble zone, which contains gas-filled bubbles having a specific bubble volume that is at least twice the specific volume of gas-filled bubbles in low-bubble quartz glass, is produced under the skin and adjoining same in an upper region of the granular layer which adjoins the lower region and extends to the full height H during the vitrification process by applying the vacuum in only or predominantly in a lower region of the granular layer which extends from the base region to no more than 0.8 times the crucible height H.\
(FR)L'invention concerne un procédé connu de production d'un creuset de verre quartzeux, selon lequel on prend un moule de fusion sous vide, sur la face interne duquel est façonnée une couche de granulation en SiO2 en forme de creuset, ladite couche comportant une zone fond et une zone paroi latérale. Sur au moins une partie de la couche de granulation poreuse, est formée une couche formant peau en verre quartzeux pauvre en bulles. Par application d'un vide partiel, des composantes gazeuses sont éliminées au moins d'une partie de la couche de granulation adjacente à la couche formant peau, et la couche de granulation est vitrifiée sur une hauteur de creuset H pour ainsi former le creuset en verre quartzeux. Pour produire un tel creuset en verre quartzeux qui facilite le processus de préparation et qui présente un faible risque d'introduction d'impuretés dans le silicium en fusion, l'invention propose que, lors de la vitrification en-deçà de la couche formant peau et adjacente à cette dernière, soit produite une zone de bulles dans une zone supérieure de la couche de granulation, ladite zone supérieure s'étendant dans le prolongement de la zone inférieure jusqu'à la hauteur H totale; ladite zone de bulles contenant des bulles, d'un volume spécifique, remplies de gaz, ledit volume spécifique étant est au moins deux fois supérieur au volume spécifique des bulles remplies de gaz du verre quartzeux pauvre en bulles; le vide partiel étant appliqué seulement ou de manière prépondérante dans une zone inférieure de la couche de granulation, ladite zone inférieure s'étendant de la zone fond jusqu'à maximum 0,8 fois la hauteur H du creuset.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)