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1. (WO2011145903) PLASMA HEATING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/145903    International Application No.:    PCT/KR2011/003723
Publication Date: 24.11.2011 International Filing Date: 19.05.2011
IPC:
H05H 1/24 (2006.01), H05H 1/34 (2006.01)
Applicants: LEE, Byoung Chul [KR/KR]; (KR)
Inventors: LEE, Byoung Chul; (KR)
Agent: PARK, Hee Jin; 401, Miele Haus Building 607-10, Yeoksam-dong Gangnam-gu Seoul 135-080 (KR)
Priority Data:
10-2010-0047480 20.05.2010 KR
Title (EN) PLASMA HEATING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE CHAUFFAGE À PLASMA
(KO) 플라즈마 가열장치
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a plasma heating apparatus. The plasma heating apparatus comprises a plasma generating unit which discharges raw gases for generating plasma to convert the gases into plasma, and mixes dilution fluid for temperature control and the converted plasma if needed, such that the heating fluid, the temperature of which is adjusted to a desired temperature level, is generated to be used as a heating source for heating an object to be heated. The plasma heating apparatus further comprises a recovery pipe which extends from a point (contact point) at which the heating fluid contacts the object to be heated, or from a trailing end of the heating fluid escaping to the air, to the plasma generating area or to the vicinity of a point (inflow point) at which the dilution fluid enters the plasma, such that the recovery pipe contacts the object to be heated by means of the pressure difference between the contact point and the inflow point, recovers at least a portion of the heating fluid escaping to the air, and uses the recovered portion of the heating fluid as dilution fluid for plasma temperature control or fluid for heating the object to be heated. Thus, the heating fluid is reused to thereby improve energy efficiency.
(FR)La présente invention se rapporte à un dispositif de chauffage à plasma. Le dispositif de chauffage à plasma comprend une unité génératrice de plasma qui décharge des gaz bruts pour la génération de plasma afin de convertir les gaz en plasma, et mélange le fluide de dilution pour le contrôle de la température et le plasma converti si nécessaire, de façon à ce que le fluide de chauffage, dont la température est réglée au niveau de température désiré, soit généré pour être utilisé en tant que source de chauffage pour le chauffage d'un objet à chauffer. Le dispositif de chauffage à plasma comprend en outre un tuyau de récupération qui s'étend à partir d'un point (point de contact) au niveau duquel le fluide de chauffage entre en contact avec l'objet à chauffer, ou à partir d'une extrémité arrière du fluide de chauffage s'échappant dans l'air, jusqu'à la zone de génération de plasma ou à proximité d'un point (point d'entrée) au niveau duquel le fluide de dilution pénètre dans le plasma, de façon à ce que le tuyau de récupération entre en contact avec l'objet à chauffer grâce à la différence de pression entre le point de contact et le point d'entrée, récupère au moins une partie du fluide de chauffage s'échappant dans l'air, et utilise la partie récupérée du fluide de chauffage comme fluide de dilution pour le contrôle de la température du plasma ou comme fluide pour le chauffage de l'objet à chauffer. Ainsi, le fluide de chauffage est réutilisé pour améliorer le rendement énergétique.
(KO)플라즈마 가열장치가 개시된다. 이 가열장치는 플라즈마 생성용 원료 기체를 방전시켜 플라즈마로 변환하고 필요 시 온도조절용 희석유체를 혼합하여 원하는 온도 수준으로 조절된 가열 유체를 피가열체의 가열원으로 생성하는 플라즈마 생성부를 갖는다. 또한, 가열 유체가 피가열체와 접촉하는 지점 또는 외기로 빠져나가는 그 후단 부위( '접촉지점')에서 플라즈마 생성 부위나 상기 플라즈마에 희석용 유체가 유입되는 부위의 근처('유입지점')까지 연장되어, 그 접촉지점과 유입지점 간의 압력차에 의해 피가열체와 접촉하여 외기로 빠져나가는 가열 유체의 적어도 일부를 회수하여 플라즈마의 온도조절용 희석유체나 또는 피가열체의 가열 유체로 사용되게 하는 회수 도관도 갖는다. 가열 유체의 재사용에 따라 에너지 효율을 높일 수 있다.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Korean (KO)
Filing Language: Korean (KO)