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1. (WO2011145500) CHEMICAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/145500    International Application No.:    PCT/JP2011/060856
Publication Date: 24.11.2011 International Filing Date: 11.05.2011
IPC:
H01L 21/312 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (For All Designated States Except US).
KUMON, Soichi; (For US Only).
SAIO, Takashi; (For US Only).
ARATA, Shinobu; (For US Only).
SAITO, Masanori; (For US Only).
RYOKAWA, Atsushi; (For US Only).
YAMADA, Shuhei; (For US Only).
NANAI, Hidehisa; (For US Only).
AKAMATSU, Yoshinori; (For US Only)
Inventors: KUMON, Soichi; .
SAIO, Takashi; .
ARATA, Shinobu; .
SAITO, Masanori; .
RYOKAWA, Atsushi; .
YAMADA, Shuhei; .
NANAI, Hidehisa; .
AKAMATSU, Yoshinori;
Agent: KOBAYASHI, Hiromichi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Priority Data:
2010-115396 19.05.2010 JP
2010-148222 29.06.2010 JP
2011-091952 18.04.2011 JP
Title (EN) CHEMICAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM
(FR) PRODUIT CHIMIQUE POUR FORMATION DE FILM PROTECTEUR
(JA) 保護膜形成用薬液
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a chemical that, when washing a wafer (1) that has a minute concavo-convex pattern (2) on the surface thereof and at least a portion of said concavo-convex pattern (2) contains the element silicon, is for forming a water-repellent protective film (10) on at least the concave surfaces of said concavo-convex pattern (2). The chemical contains a base that contains no more than 35 mass% of: an acid and a silicon compound (A) represented by the general formula R1aSi(H)b(X)4-a-b; or water and a silicon compound (C) represented by the general formula R7gSi(H)h(CH3)w(Z)4-g-h-w. The total amount of water in the starting material of the aforementioned chemical is no greater than 5000 ppm by mass of the total amount of said starting material. The chemical can improve washing steps that easily induce pattern collapse.
(FR)L'invention concerne un produit chimique destiné, lors du lavage d'une tranche (1) portant à sa surface un motif concave-convexe très fin (2) dont au moins une partie contient l'élément silicium, à former un film protecteur (10) hydrofuge au moins sur les surfaces concaves dudit motif concave-convexe (2). Le produit chimique contient une base ne contenant pas plus de 35% en masse : d'un acide et d'un composé au silicium (A) représenté par la formule générale R1aSi(H)b(X)4-a-b ; ou d'eau et d'un composé au silicium (C) représenté par la formule générale R7gSi(H)h(CH3)w(Z)4-g-h-w. La quantité totale d'eau dans le matériau précurseur dudit produit chimique ne dépasse pas 5000 ppm en masse par rapport à la quantité totale dudit matériau précurseur. Le produit chimique est susceptible d'améliorer les étapes de lavage qui engendrent facilement l'effondrement des motifs.
(JA)開示されているのは、表面に微細な凹凸パターン(2)を有し該凹凸パターン(2)の少なくとも一部がシリコン元素を含むウェハ(1)の洗浄時に、該凹凸パターン(2)の少なくとも凹部表面に撥水性保護膜(10)を形成するための薬液である。この薬液は、一般式R1aSi(H)b(X)4-a-b で表されるケイ素化合物A及び酸、または、一般式R7gSi(H)h(CH3w(Z)4-g-h-w で表されるケイ素化合物C及び水の含有量が35質量%以下の塩基を含み、前記薬液の出発原料中の水分の総量が、該原料の総量に対し5000質量ppm以下である。この薬液はパターン倒れを誘発しやすい洗浄工程を改善できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)