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1. (WO2011144878) METHOD FOR OBTAINING BORAZANE, SUITABLE FOR OBTAINING HIGHLY PURE AND VERY HIGHLY PURE BORAZANE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/144878    International Application No.:    PCT/FR2011/051149
Publication Date: 24.11.2011 International Filing Date: 20.05.2011
IPC:
C01B 35/08 (2006.01), C01B 35/14 (2006.01)
Applicants: HERAKLES [FR/FR]; Les Cinq chemins Rue de Touban F-33185 Le Haillan (FR) (For All Designated States Except US).
GOUDON, Jean-Philippe [FR/FR]; (FR) (For US Only).
RENOUARD, Joël [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: GOUDON, Jean-Philippe; (FR).
RENOUARD, Joël; (FR)
Agent: LE ROUX, Martine; CABINET BEAU DE LOMENIE 158 Rue de l'Université F-75340 Paris Cedex 07 (FR)
Priority Data:
1053990 21.05.2010 FR
Title (EN) METHOD FOR OBTAINING BORAZANE, SUITABLE FOR OBTAINING HIGHLY PURE AND VERY HIGHLY PURE BORAZANE
(FR) PROCEDE D'OBTENTION DE BORAZANE, CONVENANT POUR L'OBTENTION DE BORAZANE DE GRANDE PURETE, VOIRE DE TRES GRANDE PURETE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for obtaining borazane, suitable for obtaining borazane containing a low level of impurities. The borazane (obtained by reacting at least one ammonium salt with at least one borohydride of alkaline metal and/or alkaline earth) is dissolved in THF and selectively precipitated with a non-solvent. The precipitated borazane can be further purified by means of selective dissolution. The borazane obtained after selective precipitation and dissolution contains less than 1 mass-% impurities and/or does not demonstrate solid-state exothermic decomposition, with an endothermic melting peak temperature range above 110°C.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour l'obtention de borazane, ledit procédé convenant pour l'obtention de borazane renfermant un faible taux d'impuretés. Le borazane (obtenu par réaction d'au moins un sel d'ammonium avec au moins un borohydrure de métal alcalin et/ou alcalino-terreux) en solution dans le THF est précipité sélectivement avec un non solvant. Ledit borazane précipité peut encore être purifié par dissolution sélective. Le borazane obtenu après précipitation et dissolution sélectives renferme moins de 1 % en masse d'impuretés et/ou ne présente pas de décomposition exothermique à l'état solide avec une plage de température du pic endothermique de fusion au- delà de 110°C.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)