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1. (WO2011144687) METHOD FOR BUILDING A SUBSTRATE HOLDER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/144687    International Application No.:    PCT/EP2011/058119
Publication Date: 24.11.2011 International Filing Date: 19.05.2011
IPC:
H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01), H01L 23/58 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
FOURNEL, Frank [FR/FR]; (FR) (For US Only).
BALLY, Laurent [FR/FR]; (FR) (For US Only).
ZUSSY, Marc [FR/FR]; (FR) (For US Only).
JOURDE, Dominique [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: FOURNEL, Frank; (FR).
BALLY, Laurent; (FR).
ZUSSY, Marc; (FR).
JOURDE, Dominique; (FR)
Agent: ILGART, Jean-Christophe; Brevalex 95 rue d'Amsterdam F-75378 Paris Cedex 8 (FR)
Priority Data:
10 53987 21.05.2010 FR
Title (EN) METHOD FOR BUILDING A SUBSTRATE HOLDER
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UN SUPPORT DE SUBSTRAT
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for building a holder (100) for at least one substrate, comprising at least the implementation of the following steps: building a stack (118) comprising at least two substrates (102, 104), each of the two substrates including two opposite main surfaces (114), the two substrates being rigidly attached to one another such that one of the main surfaces of a first of the two substrates is arranged facing one of the main surfaces of the second of the two substrates and against an etch resist material (120), etching, through the first of the two substrates and stopping at the etch resist material, at least one location (122) capable of accommodating a substrate intended to be supported by the holder.
(FR)Procédé de réalisation d'un support (100) d'au moins un substrat, comportant au moins la mise en œuvre des étapes suivantes : - réalisation d'un empilement (118) comportant au moins deux substrats (102, 104), chacun des deux substrats comprenant deux faces principales (114) opposées, les deux substrats étant solidarisés l'un à l'autre tels qu'une des faces principales d'un premier des deux substrats soit disposée en regard d'une des faces principales du second des deux substrats et contre un matériau d'arrêt de gravure (120), - gravure, à travers le premier des deux substrats et avec arrêt sur le matériau d'arrêt de gravure, d'au moins un emplacement (122) apte à recevoir un substrat destiné à être supporté par le support.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)