WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2011144624) METHOD AND APPARATUS FOR OPTICALLY MEASURING BY INTERFEROMETRY THE THICKNESS OF AN OBJECT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/144624    International Application No.:    PCT/EP2011/057987
Publication Date: 24.11.2011 International Filing Date: 17.05.2011
IPC:
B24B 49/12 (2006.01), B24B 7/22 (2006.01), G01B 11/06 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: MARPOSS SOCIETA' PER AZIONI [IT/IT]; Via Saliceto 13 I-40010 Bentivoglio BO (IT) (For All Designated States Except US).
GALLETTI, Dino [IT/IT]; (IT) (For US Only).
MALPEZZI, Domenico [IT/IT]; (IT) (For US Only)
Inventors: GALLETTI, Dino; (IT).
MALPEZZI, Domenico; (IT)
Common
Representative:
MARPOSS SOCIETA' PER AZIONI; Patent Department Via Saliceto 13 I-40010 Bentivoglio BO (IT)
Priority Data:
BO2010A000313 18.05.2010 IT
BO2010A000318 18.05.2010 IT
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR OPTICALLY MEASURING BY INTERFEROMETRY THE THICKNESS OF AN OBJECT
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR MESURER OPTIQUEMENT PAR INTERFÉROMÉTRIE L'ÉPAISSEUR D'UN OBJET
Abstract: front page image
(EN)Methods and apparatuses are used for optically measuring by interferometry the thickness (T) of an object (2) such as a slice of semiconductor material. Readings of the object thickness by optical interferometry are carried out, rough thickness values (RTW) are obtained and frequencies, indicating how often the rough thickness values occur, are evaluated. A limited set of adjacent rough thickness values whose frequency integration or summation represents an absolute maximum is identified, and the actual value of the thickness of the object is determined as a function of the rough thickness values belonging to said limited set of values. The rough thickness values can be divided up into classes (C) with corresponding frequencies (F), and in this case, a preponderant group (Gmax) of thickness classes is identified as the above-mentioned limited set of adjacent rough thickness. A lower reject threshold (Rmin) and a higher reject threshold (Rmax) that define a searching interval including the actual value of the object thickness are also determined, and all the rough thickness values that are outside the searching interval are eliminated from further processing. When measuring the object during a surface machining, the reject thresholds are progressively and automatically updated as a function of a gradual thickness reduction that the object undergoes.
(FR)L'invention porte sur des procédés et sur des appareils, qui sont utilisés pour mesurer optiquement par interférométrie l'épaisseur (T) d'un objet (2) tel qu'une tranche de matériau semi-conducteur. Des lectures de l'épaisseur de l'objet par interférométrie optique sont effectuées, des valeurs d'épaisseurs grossières (RTW) sont obtenues, et des fréquences, indiquant la fréquence à laquelle les valeurs d'épaisseurs grossières se produisent, sont évaluées. Un ensemble limité de valeurs d'épaisseurs grossières adjacentes dont la totalisation ou l'intégration de fréquence représente un maximum absolu est identifié, et la valeur effective de l'épaisseur de l'objet est déterminée en fonction des valeurs d'épaisseurs grossières appartenant audit ensemble limité de valeurs. Les valeurs d'épaisseurs grossières peuvent être divisées en classes (C) avec des fréquences correspondantes (F), et, dans ce cas, un groupe prépondérant (Gmax) de classes d'épaisseurs est identifié comme étant l'ensemble limité mentionné ci-dessus d'épaisseurs grossières adjacentes. Un seuil de rejet inférieur (Rmin) et un seuil de rejet supérieur (Rmax) qui définissent un intervalle de recherche incluant la valeur effective de l'épaisseur de l'objet sont également déterminés, et toutes les valeurs d'épaisseurs grossières qui sont à l'extérieur de l'intervalle de recherche sont éliminées d'un traitement ultérieur. Lors de la mesure de l'objet pendant un usinage de surface, les seuils de rejet sont progressivement et automatiquement mis à jour en fonction d'une réduction d'épaisseur graduelle que subit l'objet.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)