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1. (WO2011142403) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, CURING PATTERN FORMING METHOD AND CURING PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/142403    International Application No.:    PCT/JP2011/060893
Publication Date: 17.11.2011 International Filing Date: 11.05.2011
IPC:
G03F 7/075 (2006.01), C08F 212/14 (2006.01), C08F 220/22 (2006.01), C08F 232/02 (2006.01), C08G 77/04 (2006.01), C08G 77/50 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR Corporation [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
HASEGAWA Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYATA Hiromu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YASUDA Kyoyu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HASEGAWA Koichi; (JP).
MIYATA Hiromu; (JP).
YASUDA Kyoyu; (JP)
Agent: KOJIMA Seiji; JINGUHIGASHI ATSUTA Bldg., 4F., 8-20, Jingu 3-chome, Atsuta-ku, Nagoya-shi, Aichi 4560031 (JP)
Priority Data:
2010-110575 12.05.2010 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, CURING PATTERN FORMING METHOD AND CURING PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS POUR EXPOSITION PAR IMMERSION, PROCÉDÉ DE TRAÇAGE DE MOTIF DE TRAITEMENT ET MOTIF DE TRAITEMENT
(JA) 液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン
Abstract: front page image
(EN)Provided is a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure, a curing pattern forming method and a curing pattern ideally used in an immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for immersion exposure, such as water. The radiation-sensitive resin composition for immersion exposure comprises a structure obtained by hydrolysis-condensation of a silane compound represented by the formula [R1aSiX4-a] and/or a silane compound represented by the formula [SiX4], and contains a silicon-containing polymer having a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000 according to GPC, a fluorine-containing polymer, and an acid generator. (In each formula: R1 represents a fluorine atom, an alkylcarbonyloxy group, or an alkyl group with 1 to 20 carbons; X represents a chlorine atom, a bromine atom, or OR (where R is a monovalent organic group); and a represents an integer from 1 to 3.)
(FR)L'invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements pour l'exposition par immersion, un procédé de formation de motif de traitement et un motif de traitement idéalement dans un processus d'exposition par immersion servant à exposer une pellicule protectrice via un liquide pour l'exposition par immersion, comme l'eau. La composition de résine sensible rayonnement pour exposition par immersion comprend une structure obtenue par condensation par hydrolyse d'un composé du silane représenté par la formule [R1aSiX4-a] et/ou un composé du silane représenté par la formule [SiX4], contient un polymère contenant du silicium dont le poids moléculaire moyen en poids est compris entre 1 000 et 200 000 selon le GPC, un polymère contenant du fluor, et un générateur d'acide. (Dans chaque formule : R1 représente un atome de fluor, un groupe alkylcarbonyloxy, ou un groupe alkyle comportant 1 à 20 atomes de carbone ; X représente un atome de chlore, un atome de brome, ou OR (où R représente un groupe organique monovalent) ; et a représente un entier de 1 à 3.)
(JA) 本発明の目的は、水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式[RSiX4-a]で表されるシラン化合物、及び式[SiX]で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも1種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つGPCによる重量平均分子量が1000~200000であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるRはフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1~20のアルキル基を示し、Xは塩素原子、臭素原子又はOR(R:1価の有機基)を示し、aは1~3の整数を示す。〕。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)