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Pub. No.:    WO/2011/142194    International Application No.:    PCT/JP2011/058527
Publication Date: 17.11.2011 International Filing Date: 04.04.2011
C23C 18/08 (2006.01), C23C 18/10 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (For All Designated States Except US).
HIRAKAWA, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TOMONO, Masaru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKASHIMA, Seiji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KISHITA, Naofumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUGA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIRAKAWA, Osamu; (JP).
TOMONO, Masaru; (JP).
KISHITA, Naofumi; (JP).
KUGA, Yasuhiro; (JP)
Agent: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Priority Data:
2010-110206 12.05.2010 JP
(JA) 金属膜形成システム
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a metal film forming system which comprises a carry in/out station for carrying a substrate in and out, a processing station for forming a metal film, and a load lock unit for connecting the carry in/out station and the processing station. The processing station comprises: a coating unit for coating the substrate with a metal mixture; a pre-heat treatment unit for heating the substrate coated with the metal mixture; a post-heat treatment unit for further heating the substrate heated by the pre-heat treatment unit; and a conveyance unit for conveying the substrate. The coating unit, pre-heat treatment unit, post-heat treatment unit, conveyance unit, and load lock unit are configured so that it is possible to switch the interior of each unit between an atmospheric-pressure inert gas atmosphere or a low-pressure atmosphere.
(FR)L'invention concerne un système de formation de film métallique qui possède : un poste de chargement / déchargement pour charger et décharger un substrat, un poste de traitement pour former un film métallique, et une unité de verrouillage de chargement qui connecte le poste de chargement / déchargement et le poste de traitement. Le poste de traitement possède : une unité d'application dans laquelle un liquide mélangé de métal est appliqué sur un substrat; une unité de pré-traitement thermique dans laquelle le substrat sur lequel est appliqué le liquide mélangé de métal, est traité thermiquement; une unité de post-traitement thermique dans laquelle le substrat traité thermiquement dans l'unité de pré-traitement thermique, est à nouveau traité thermiquement; et une unité de transport pour transporter le substrat. L'unité d'application, l'unité de pré-traitement thermique, l'unité de post-traitement thermique, l'unité de transport, et l'unité de verrouillage de chargement sont configurées de sorte que les parties internes de chacune puissent être changées en une atmosphère sous pression atmosphérique ou sous pression réduite de gaz inerte.
(JA) 金属膜形成システムは、基板を搬入出する搬入出ステーションと、金属膜を形成する処理ステーションと、搬入出ステーションと処理ステーションとを接続するロードロックユニットとを有している。処理ステーションは、基板上に金属混合液を塗布する塗布ユニットと、金属混合液が塗布された基板を熱処理する前熱処理ユニットと、前熱処理ユニットで熱処理された基板をさらに熱処理する後熱処理ユニットと、基板を搬送する搬送ユニットとを有する。塗布ユニット、前熱処理ユニット、後熱処理ユニット、搬送ユニット、ロードロックユニットは、それぞれ内部を不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り替え可能に構成されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)