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1. (WO2011142110) PLASMON SENSOR, AND USAGE METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/142110    International Application No.:    PCT/JP2011/002567
Publication Date: 17.11.2011 International Filing Date: 09.05.2011
IPC:
G01N 21/27 (2006.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (For All Designated States Except US).
TAMURA, Masaya; (For US Only).
KAGATA, Hiroshi; (For US Only).
OKA, Hiroaki; (For US Only).
FUKUSHIMA, Susumu; (For US Only)
Inventors: TAMURA, Masaya; .
KAGATA, Hiroshi; .
OKA, Hiroaki; .
FUKUSHIMA, Susumu;
Agent: NAITO, Hiroki; c/o Panasonic Corporation, 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
Priority Data:
2010-109801 12.05.2010 JP
Title (EN) PLASMON SENSOR, AND USAGE METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) CAPTEUR À PLASMON, ET SES PROCÉDÉS D'UTILISATION ET DE FABRICATION
(JA) プラズモンセンサとその使用方法及び製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a plasmon sensor which has a first metallic layer and a second metallic layer. The first metallic layer has a lower surface and an upper surface which is configured so at to have electromagnetic waves supplied thereto. The second metallic layer has an upper surface which faces the lower surface of the first metallic layer. An empty region is provided between the first metallic layer and the second metallic layer, said empty region being configured so as to be filled with a sample containing a medium. A plurality of analyte trapping bodies is physically adsorbed on at least one among the lower part of the first metallic layer and the upper part of the second metallic layer.
(FR)L'invention porte sur un capteur à plasmon, qui a une première couche métallique et une seconde couche métallique. La première couche métallique a une surface inférieure et une surface supérieure qui est configurée de façon à ce que des ondes électromagnétiques soient apportées à celle-ci. La seconde couche métallique a une surface supérieure qui fait face à la surface inférieure de la première couche métallique. Une région vide est présente entre la première couche métallique et la seconde couche métallique, ladite région vide étant configurée de façon à être remplie par un échantillon contenant un milieu. Une pluralité de corps de piégeage d'analyte sont physiquement adsorbés sur au moins l'une parmi la partie inférieure de la première couche métallique et la partie supérieure de la seconde couche métallique.
(JA)プラズモンセンサは、第1金属層と、第2金属層とを有する。第1金属層は、下面と、電磁波が供給されるように構成された上面とを有する。第2金属層は、第1金属層の下面に対向する上面を有する。第1金属層と第2金属層との間には媒質を含有する試料で充填されるように構成された中空領域が設けられている。第1金属層の下方と第2金属層の上方の少なくとも一方には、複数のアナライト捕捉体が物理吸着されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)