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1. (WO2011140962) STRUCTURE FOR NOISE SUPPRESSION IN ELECTRONIC DEVICES AND METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/140962    International Application No.:    PCT/CN2011/073827
Publication Date: 17.11.2011 International Filing Date: 09.05.2011
IPC:
C04B 35/48 (2006.01), H05K 10/00 (2006.01)
Applicants: CHEN, Huimin [CN/CN]; (CN)
Inventors: CHEN, Huimin; (CN)
Agent: YOGO PATENT & TRADEMARK AGENCY LIMITED COMPANY; Room3912 Block B, Sinopec Tower No. 191 Tiyu West Rd Tianhe Guangzhou, Guangdong 516000 (CN)
Priority Data:
201010168080.3 10.05.2010 CN
Title (EN) STRUCTURE FOR NOISE SUPPRESSION IN ELECTRONIC DEVICES AND METHOD THEREOF
(FR) STRUCTURE D'ÉLIMINATION DU BRUIT DANS LES DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
(ZH) 电子器物的噪声抑制结构及其方法
Abstract: front page image
(EN)A structure for noise suppression in electronic devices and the method thereof are provided. The structure for noise suppression comprises zirconia and at least one of oxides as stabilizing agent as main ingredients, and is formed by calcining at high temperature and ceramization after uniformly mixing the main ingredients. The noise suppression structure can suppress noise by covering the surface or peripheral of electronic devices.
(FR)La présente invention concerne une structure pour l'élimination du bruit dans des dispositifs électroniques ainsi que le procédé associé. La structure pour l'élimination du bruit comprend de la zircone et au moins un oxyde comme agent stabilisant comme principaux ingrédients, et est formée par calcination à haute température et par céramisation après mélange uniforme des principaux ingrédients. La structure d'élimination du bruit peut éliminer le bruit en recouvrant la surface ou la périphérie des dispositifs électroniques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)