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1. (WO2011139571) DYNAMICALLY OR ADAPTIVELY TRACKING SPECTRUM FEATURES FOR ENDPOINT DETECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/139571    International Application No.:    PCT/US2011/033258
Publication Date: 10.11.2011 International Filing Date: 20.04.2011
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (For All Designated States Except US).
DAVID, Jeffrey Drue [US/US]; (US) (For US Only).
LEE, Harry Q. [US/US]; (US) (For US Only).
LIM, Thian Choi [SG/SG]; (SG) (For US Only).
LAM, Gary Ka Ho [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DAVID, Jeffrey Drue; (US).
LEE, Harry Q.; (US).
LIM, Thian Choi; (SG).
LAM, Gary Ka Ho; (US)
Agent: GOREN, David J.; Fish & Richardson P.C. P.O. Box 1022 Minneapolis, Minnesota 55440-1022 (US)
Priority Data:
61/331,751 05.05.2010 US
61/359,303 28.06.2010 US
Title (EN) DYNAMICALLY OR ADAPTIVELY TRACKING SPECTRUM FEATURES FOR ENDPOINT DETECTION
(FR) SUIVI DYNAMIQUE OU ADAPTATIF DE PARTICULARITÉS SPECTRALES POUR DÉTECTER UN POINT D'ARRÊT DE POLISSAGE
Abstract: front page image
(EN)A method of controlling polishing includes polishing a substrate and receiving an identification of a selected spectral feature, a wavelength range having a width, and a characteristic of the selected spectral feature to monitor during polishing. A sequence of spectra of light from the substrate is measured while the substrate is being polished. A sequence of values of the characteristic of the selected spectral feature is generated from the sequence of spectra. For at least some spectra from the sequence of spectra, a modified wavelength range is generated based on a position of the spectral feature within a previous wavelength range used for a previous spectrum in the sequence of spectra, the modified wavelength range is searched for the selected spectral feature, and a value of a characteristic of the selected spectral feature is determined.
(FR)L'invention concerne un procédé de commande de polissage consistant à polir un substrat et à recevoir une identification d'une particularité spectrale sélectionnée, d'une plage de longueur présentant une certaine largeur, et d'une caractéristique de la particularité spectrale sélectionnée à surveiller pendant le polissage. Une séquence de spectres de lumière provenant du substrat est mesurée pendant que le substrat est en cours de polissage. Une séquence de valeurs de la caractéristique de la particularité spectrale sélectionnée est générée à partir de la séquence de spectres. Pour au moins certains spectres de la séquence de spectres, une plage de longueurs d'onde modifiée est générée en fonction d'une position de la particularité spectrale à l'intérieur d'une plage de longueurs d'onde précédente utilisée pour un spectre précédent de la séquence de spectres, la plage de longueurs d'onde modifiée est soumise à une recherche destinée à obtenir la particularité spectrale sélectionnée, et une valeur d'une caractéristique de la particularité spectrale sélectionnée est déterminée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)