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1. (WO2011139111) RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

IA Considered Withdrawn 2012-04-12 00:00:00.0


Pub. No.:    WO/2011/139111    International Application No.:    PCT/KR2011/003376
Publication Date: 10.11.2011 International Filing Date: 06.05.2011
IPC:
C09D 135/00 (2006.01), C08K 5/3492 (2006.01), C03C 1/00 (2006.01), C08F 220/26 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Applicants: ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD. [AU/KR]; 736, Baekseok-dong, Cheonan-si Chungcheongnam-do 331-980 (KR) (For All Designated States Except US).
KIM, Tae Young [KR/KR]; (KR) (For US Only).
HAN, Seok [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KIM, Seung Keun [KR/KR]; (KR) (For US Only).
JUNG, Ju Young [KR/KR]; (KR) (For US Only).
SUNG, In Kyung [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LEE, Moo Young [KR/KR]; (KR) (For US Only).
AN, Sang Wang [KR/KR]; (KR) (For US Only).
JANG, Lae Sun [KR/KR]; (KR) (For US Only).
LEE, Hag Ju [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: KIM, Tae Young; (KR).
HAN, Seok; (KR).
KIM, Seung Keun; (KR).
JUNG, Ju Young; (KR).
SUNG, In Kyung; (KR).
LEE, Moo Young; (KR).
AN, Sang Wang; (KR).
JANG, Lae Sun; (KR).
LEE, Hag Ju; (KR)
Agent: KWON, Oh-Sig; 4F, Jooeunleaderstel, 921, Dunsan-dong, Seo-gu Daejeon 302-120 (KR)
Priority Data:
10-2010-0042835 07.05.2010 KR
Title (EN) RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, FILM ISOLANT UTILISANT LADITE COMPOSITION ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition having excellence in photosensitive characteristics such as resolution and residual film ratio, in adhesion with the substrate the region exposed to a lower amount of light, in light resistance to UV light region, and in light transmittance at visible light region, and a photosensitive resin composition for an organic interlayer insulating film for a TFT-LCD requiring an etching process margin, an exposing process margin, and a light resistance.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible présentant d'excellentes caractéristiques photosensibles, telle que la résolution et le rapport de film résiduel, une excellente adhésion d'un substrat à une région exposée à une faible quantité de lumière, une excellente résistance à la lumière dans une région de lumière UV, et une excellente transmission de lumière dans une région de lumière visible. L'invention concerne également une composition de résine photosensible utilisée dans un film isolant de couche intermédiaire organique pour un TFT-LCD requérant une marge de traitement par gravure, une marge de traitement d'exposition et une résistance à la lumière.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)