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1. (WO2011138540) METHOD OF TOPOGRAPHICAL AND ELECTRICAL NANOSTRUCTURATION OF A THIN FILM OF ELECTRET POLYMER AND THIN FILM OF ELECTRET POLYMER OBTAINED
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/138540    International Application No.:    PCT/FR2011/050934
Publication Date: 10.11.2011 International Filing Date: 22.04.2011
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), B29C 43/02 (2006.01)
Applicants: INSTITUT NATIONAL DES SCIENCES APPLIQUEES DE TOULOUSE [FR/FR]; 135 avenue de Rangueil F-31077 Toulouse Cedex 4 (FR) (For All Designated States Except US).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S.) [FR/FR]; 3 rue Michel Ange F-75794 Paris Cedex 16 (FR) (For All Designated States Except US).
RESSIER, Laurence [FR/FR]; (FR) (For US Only).
PALLEAU, Etienne [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: RESSIER, Laurence; (FR).
PALLEAU, Etienne; (FR)
Agent: CABINET BARRE LAFORGUE & ASSOCIÉS; 35, rue Lancefoc F-31000 Toulouse (FR)
Priority Data:
10.01967 07.05.2010 FR
61/384,832 21.09.2010 US
Title (EN) METHOD OF TOPOGRAPHICAL AND ELECTRICAL NANOSTRUCTURATION OF A THIN FILM OF ELECTRET POLYMER AND THIN FILM OF ELECTRET POLYMER OBTAINED
(FR) PROCÉDÉ DE NANO-STRUCTURATION TOPOGRAPHIQUE ET ÉLECTRIQUE D'UN FILM MINCE DE POLYMÈRE ÉLECTRET ET FILM MINCE DE POLYMÈRE ÉLECTRET OBTENU
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method of nano-structuration of a thin film (6) of electret polymer, termed "electric nano-impression" method, in which a surface (4) of a mould (2), termed the structuration surface, comprising nanometric relief patterns (3), is placed in contact with at least one part of a free surface, termed the treated surface (5) of the thin film (6) of electret polymer, nanometric patterns are formed, corresponding to the negative of the structuration patterns of the mould, in said thin film (6) of electret polymer, by exerting a pressure of the structuration surface (4) on the surface (5) of the thin film (6) of electret polymer, an electric voltage is applied between said structuration surface (4) and the rear face (7) of the film (6) for a predetermined duration T2 suitable for inducing, after removal of the electric voltage applied, a differential distribution of electrostatic charges between the tops and the bottoms of the nanometric patterns formed in the thin electret polymer film.
(FR)L'invention concerne un procédé de nano- structuration d'un film (6) mince de polymère électret, dit procédé de « nano-impression électrique », dans lequel on met en contact une surface (4) d'un moule (2), dite surface de structuration, comportant des motifs (3) nanométriques en relief, avec au moins une partie d'une surface libre, dite surface (5) traitée du film (6) mince de polymère électret, on forme des motifs nanométriques, correspondant au négatif des motifs de structuration du moule, dans ledit film (6) mince de polymère électret, en exerçant une pression de la surface (4) de structuration sur la surface (5) du film (6) mince de polymère électret, on applique une tension électrique entre ladite surface (4) de structuration et la face (7) arrière du film (6) pendant une durée prédéterminée T2 adaptée pour induire, après annulation de la tension électrique appliquée, une répartition différentielle de charges électrostatiques entre les sommets et les fonds des motifs nanométriques formés dans le film mince de polymère électret.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)