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1. (WO2011138340) SUBSTRATES FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY AND THEIR PRODUCTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/138340    International Application No.:    PCT/EP2011/057074
Publication Date: 10.11.2011 International Filing Date: 03.05.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), C03B 32/02 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 10/00 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
KALLER, Julian [DE/DE]; (DE) (For US Only).
CLAUSS, Wilfried [DE/DE]; (DE) (For US Only).
GERHARD, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KALLER, Julian; (DE).
CLAUSS, Wilfried; (DE).
GERHARD, Michael; (DE)
Agent: WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT; Mendelstr.11 48149 Münster (DE)
Priority Data:
10 2010 028 488.2 03.05.2010 DE
61/330,517 03.05.2010 US
Title (EN) SUBSTRATES FOR MIRRORS FOR EUV LITHOGRAPHY AND THEIR PRODUCTION
(FR) SUBSTRATS POUR MIROIRS DE LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS EXTRÊMES ET PRODUCTION DE CES MIROIRS
Abstract: front page image
(EN)For the production of mirrors for EUV lithography, substrates are suggested having a mean relative thermal longitudinal expansion of no more than 10 ppb across a temperature difference ΔΤ of 15°C and a zero-crossing temperature in the range between 20°C and 40°C. For this purpose, at least one first and one second material having low thermal expansion coefficients and opposite gradients of the relative thermal expansion as a function of temperature are selected and a substrate is produced by mixing and bonding these materials.
(FR)L'invention concerne des substrats présentant une dilatation thermique longitudinale relative moyenne de 10 ppb maximum sur une différence de température ΔΤ de 15°C et une température de passage par zéro comprise entre 20°C et 40°C, destinés à être utilisés dans la production de miroirs de lithographie par ultraviolets extrêmes. Selon l'invention, au moins un premier et un deuxième matériau présentant un faible coefficient de dilatation thermique et des gradients opposés de dilatation thermique relative en fonction de la température sont sélectionnés et un substrat est produit par mélange et liaison de ces matériaux.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)