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1. (WO2011137119) ELECTRODE CONDITIONING IN AN ELECTRODHYDRODYNAMIC FLUID ACCELERATOR DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/137119    International Application No.:    PCT/US2011/033954
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 26.04.2011
IPC:
B03C 3/74 (2006.01)
Applicants: TESSERA, INC. [US/US]; 3025 Orchard Parkway San Jose, CA 95134 (US) (For All Designated States Except US).
HONER, Kenneth, A. [US/US]; (US) (For US Only).
GAO, Guilian [US/US]; (US) (For US Only).
JEWELL-LARSEN, Nels [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HONER, Kenneth, A.; (US).
GAO, Guilian; (US).
JEWELL-LARSEN, Nels; (US)
Agent: DORIUS, Kirk; 7600B N Capital of Texas Hwy Suite 350 Austin, TX 78731 (US)
Priority Data:
12/771,967 30.04.2010 US
Title (EN) ELECTRODE CONDITIONING IN AN ELECTRODHYDRODYNAMIC FLUID ACCELERATOR DEVICE
(FR) TRAITEMENT D'ÉLECTRODE DANS UN DISPOSITIF ACCÉLÉRATEUR DE FLUIDE ÉLECTROHYDRODYNAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)Conditioning an electrode is performed with a cleaning device (104, 106, 204, 206, 404, 504, 506, 704, 706, 804, 806, 904, 906, 1002) for removing detrimental material or preventing such from forming on electrode surfaces of an electrohydrodynamic device or other ion flow generating device. A conditioning material (304, 810, 910) is deposited on the electrode (102, 202, 302, 508, 708, 808, 908, 1008) to at least partially mitigate erosion, corrosion, oxidations, dendrite formation on the electrode or ozone production. The conditioning material can be deposited by a wearable portion of one or more cleaning blocks or wipers. The cleaning blocks may have a composition selected to be hard enough to remove detrimental material under a selected pressure, while soft enough to be wearable to deposit a conditioning layer on the electrode surface. The conditioning material can be applied as a solid or liquid. The applied conditioning material can include at least one of silver, palladium, platinum, manganese, nickel, zirconium, titanium, tungsten, aluminum, oxides or alloys thereof, carbon, and organometallic materials that decompose under plasma conditions.
(FR)Cette invention concerne le traitement d'une électrode au moyen d'un dispositif de nettoyage (104, 106, 204, 206, 404, 504, 506, 704, 706, 804, 806, 904, 906, 1002) pour éliminer les matières néfastes ou les empêcher de se former sur les surfaces d'électrode d'un dispositif électrohydrodynamique ou autre dispositif générateur de flux d'ions. Une matière de traitement (304, 810, 910) est déposée sur l'électrode (102, 202, 302, 508, 708, 808, 908, 1008) pour atténuer au moins partiellement l'érosion, la corrosion, les oxydations, la formation de dendrites sur l'électrode ou la production d'ozone. La matière de traitement peut être déposée par une partie usable d'un ou plusieurs blocs de nettoyage ou d'essuyage. Les blocs de nettoyage peuvent avoir une composition choisie de sorte à leur conférer une dureté suffisante afin d'éliminer les matières néfastes sous une pression sélectionnée, tout en étant suffisamment souples pour être usables afin de déposer une couche de traitement sur la surface d'électrode. La matière de traitement peut être appliquée sous forme solide ou liquide. La matière de traitement appliquée peut comprendre au moins un élément parmi l'argent, le palladium, la platine, le manganèse, le nickel, le zirconium, le titane, le tungstène, l'aluminium, des oxydes ou des alliages de ceux-ci, le carbone et des matériaux organométalliques qui se décomposent dans des conditions de plasma.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)