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1. (WO2011136452) A METHOD FOR REDUCING DEFECTS IN SPHERICAL OXIDE PARTICLE ALIGNMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/136452    International Application No.:    PCT/KR2010/007869
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 09.11.2010
IPC:
C01B 33/18 (2006.01), C01B 37/02 (2006.01), C09D 1/00 (2006.01), G02B 1/02 (2006.01)
Applicants: KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY [KR/KR]; 39-1 Hawolgok-dong, Seongbuk-gu Seoul 136-791 (KR) (For All Designated States Except US).
PARK, Jong Ku [KR/KR]; (KR) (For US Only).
CHO, So Hye [KR/KR]; (KR) (For US Only).
CHOI, Pyuck Pa [KR/KR]; (KR) (For US Only).
PARK, Su Young [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: PARK, Jong Ku; (KR).
CHO, So Hye; (KR).
CHOI, Pyuck Pa; (KR).
PARK, Su Young; (KR)
Agent: JEONG, Tae Hoon; TNI Patent & Law Office, 7th Floor, Anyang Building 968, Daechi-Dong, Gangnam-Gu Seoul 135-848 (KR)
Priority Data:
10-2010-0040420 30.04.2010 KR
Title (EN) A METHOD FOR REDUCING DEFECTS IN SPHERICAL OXIDE PARTICLE ALIGNMENT
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE DÉFAUTS D'ALIGNEMENT DE PARTICULES D'OXYDE SPHÉRIQUES
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a method of treating spherical oxide particles comprising subjecting the spherical oxide particles to heat treatment above room temperature. Spherical oxide particles synthesized by a sol-gel method, specifically silica particles, are heat treated to minimize defects occurring during particle alignment, thereby eventually enhancing the volume stability of the silica particles. Since a silica layer with less structural defects fabricated according to the present invention has high physical stability and provides high crystallinity over a large area, it can be used in fields that require photonic crystals having superior optical properties, such as light refractive layers, waveguides, etc.
(FR)La présente invention concerne un procédé de traitement de particules d'oxyde sphériques comprenant la soumission des particules d'oxyde sphériques à un traitement thermique à une température supérieure à la température ambiante. Des particules d'oxyde sphériques synthétisées par un procédé en sol-gel, spécifiquement des particules de silice, sont traitées à la chaleur pour réduire les défauts qui apparaissent pendant l'alignement des particules, ce qui augmente ainsi finalement la stabilité du volume des particules de silice. Etant donné qu'une couche de silice présentant moins de défauts structuraux fabriquée conformément à la présente invention a une stabilité physique élevée et permet d'obtenir une cristallinité élevée sur une grande surface, elle peut être utilisée dans des domaines qui nécessitent des cristaux photoniques présentant des propriétés optiques supérieures, comme les couches réfléchissant la lumière, les guides d'ondes, etc.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)