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1. (WO2011136379) CYCLOPHOSPHAZENE COMPOUND, LUBRICANT COMPRISING SAME, AND MAGNETIC DISK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/136379    International Application No.:    PCT/JP2011/060493
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 20.04.2011
IPC:
C07F 9/6593 (2006.01), C08G 65/335 (2006.01), C10M 105/74 (2006.01), G11B 5/725 (2006.01), C10N 20/04 (2006.01), C10N 30/00 (2006.01), C10N 40/18 (2006.01)
Applicants: MORESCO Corporation [JP/JP]; 5-3, Minatojimaminami-machi 5-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 650-0047 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIMIZU, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Nagayoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIMIZU, Tsuyoshi; (JP).
KOBAYASHI, Nagayoshi; (JP)
Agent: TAMURA, Iwao; 9-22, Terauchi 1-chome Toyonaka-shi, Osaka 561-0872 (JP)
Priority Data:
2010-101122 26.04.2010 JP
Title (EN) CYCLOPHOSPHAZENE COMPOUND, LUBRICANT COMPRISING SAME, AND MAGNETIC DISK
(FR) COMPOSÉ DE CYCLOPHOSPHAZÈNE, LUBRIFIANT À BASE DE CE DERNIER ET DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) シクロホスファゼン化合物、及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are a cyclophosphazene compound represented by formula (I), a lubricant comprising the compound, and a magnetic disk. In formula (I), n is 2, 3, or 4, m is an integer of 1-12, R is a C1-4 fluoroalkyl, and Rf is -CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2- or -CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2-. Symbols x, y, and z each is 0 or a positive real number so that the fluoropolyether containing the Rf and represented by HOCH2-Rf-CH2OH has a number-average molecular weight of 500-4,000, the fluoropolyether having a molecular-weight distribution (PD) of 1.0-1.5.
(FR)La présente invention concerne un composé de cyclophosphazène représenté par la formule (I), un lubrifiant contenant ledit composé et un disque magnétique. Dans la formule (I), n vaut 2, 3 ou 4, m représente un nombre entier de 1 à 12, R représente un groupe fluoroalkyle en C1 à C4, et Rf représente -CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2- ou -CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2-. Les symboles x, y et z valent chacun 0 ou un nombre réel positif de telle manière que le fluoropolyéther contenant le Rf et représenté par HOCH2-Rf-CH2OH présente une masse moléculaire moyenne en nombre de 500 à 4000, le fluoropolyéther présentant une répartition des masses moléculaires (PD) de 1,0 à 1,5.
(JA) 式(Ⅰ)で表されるシクロホスファゼン化合物及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク 式中nは2、3または4であり、mは1~12の整数であり、RはC1~4のフルオロアルキル基である。Rfは、-CFO(CFCFO)(CFO)CF-又は-CFCFO(CFCFCFO)CFCF-である。x、y、zはそれぞれ、上記Rfを含むHOCH-Rf-CHOHで示されるフルオロポリエーテルの数平均分子量が500~4000となる0または正の実数であり、該フルオロポリエーテルの分子量分布(PD)は1.0~1.5である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)