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1. (WO2011136327) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/136327    International Application No.:    PCT/JP2011/060367
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 28.04.2011
IPC:
C03C 17/28 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
Applicants: NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP) (For All Designated States Except US).
HATTORI, Daisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURASHIGE, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAMEYAMA, Tadayuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HATTORI, Daisuke; (JP).
MURASHIGE, Takeshi; (JP).
KAMEYAMA, Tadayuki; (JP)
Agent: MOMII, Takafumi; 7th Floor, Chiyoda Building Bekkan, 6-1-2, Nishitemma, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Priority Data:
2010-105140 30.04.2010 JP
2010-252704 11.11.2010 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT TRANSPARENT
(JA) 透明基板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a transparent substrate which has excellent bendability, flexibility, impact resistance and appearance. Specifically disclosed is a method for producing a transparent substrate, which comprises: a step A wherein a coating layer is formed by applying a solution of a thermoplastic resin (A) composition to a supporting base that has solvent permeability; a step B wherein a laminate is formed by bonding at least one surface of an inorganic glass member and the coating layer with an adhesive composition interposed therebetween; a step C wherein the amount of solvent remaining in the coating layer is reduced to a predetermined amount by subjecting the laminate to a first heat treatment; and a step D wherein a thermoplastic resin layer is formed by separating the supporting base from the laminate, and then subjecting the resulting to a second heat treatment so that the coating layer is dried.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'un substrat transparent ayant une excellente aptitude au cintrage, flexibilité, résistance aux chocs et aspect. Plus spécifiquement, cette invention concerne un procédé de production d'un substrat transparent, qui comprend : une étape A consistant à former une couche de revêtement par application d'une solution d'une composition de résine thermoplastique (A) sur une base de support possédant une perméabilité aux solvants ; une étape B consistant à former un stratifié par collage d'au moins une surface d'un élément en verre inorganique et de la couche de revêtement avec une composition adhésive interposée entre les deux ; une étape C consistant à réduire la quantité de solvant subsistant dans la couche de revêtement à une quantité prédéterminée par soumission du stratifié à un premier traitement thermique ; et une étape D consistant à former une couche de résine thermoplastique par séparation de la base de support du stratifié, puis soumission du stratifié obtenu à un second traitement thermique de façon que la couche de revêtement soit séchée.
(JA) 屈曲性、可撓性、耐衝撃性および外観に優れる透明基板の製造方法を提供すること。 本発明の透明基板の製造方法は、溶剤透過性を有する支持基材上に熱可塑性樹脂(A)組成物溶液を塗布して、塗布層を形成する工程Aと、無機ガラスの少なくとも一方の面と該塗布層とを、接着剤組成物を介して貼り合わせて、積層体を形成する工程Bと、該積層体に第1の熱処理を施し、該塗布層中の残存溶剤量を所定量まで減少させる工程Cと、該積層体から該支持基材を剥離した後、第2の熱処理を行い、該塗布層を乾燥して、熱可塑性樹脂層を形成する工程Dとを含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)