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1. (WO2011136296) ANION EXCHANGE MEMBRANE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/136296    International Application No.:    PCT/JP2011/060314
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 27.04.2011
IPC:
C08J 5/22 (2006.01), C08F 291/00 (2006.01)
Applicants: AGC ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 6, Nakase 2-chome, Mihama-ku, Chiba-shi, Chiba 2617119 (JP) (For All Designated States Except US).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION CHIBA UNIVERSITY [JP/JP]; 33, Yayoi-cho 1-chome, Inage-ku, Chiba-shi, Chiba 2638522 (JP) (For All Designated States Except US).
SHOUJI, Nobuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYAZAKI, Kouhei [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAITO, Kyouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHOUJI, Nobuyoshi; (JP).
MIYAZAKI, Kouhei; (JP).
SAITO, Kyouichi; (JP)
Agent: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Priority Data:
2010-102295 27.04.2010 JP
Title (EN) ANION EXCHANGE MEMBRANE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MEMBRANE ÉCHANGEUSE D'ANIONS ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 陰イオン交換膜およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an anion exchange membrane having heat resistance and alkali resistance, capable of controlling occurrences of pinholes and reduction in strength even with the formation of thin membranes, and having sufficiently low membrane resistance. Also disclosed is a method for producing the same. Specifically disclosed is a method for producing an anion exchange membrane wherein, after graft polymerization by radiation graft polymerization of a monomer component containing a monomer (1) to a membrane-shaped polymer in the presence of 0.005 - 3 parts by mass of a polymerization inhibitor per 100 parts by mass of the monomer component, a compound (2) is reacted. A is a C3-8 alkylene group or the like; R1 - R3 are H, C1-6 alkyl groups or the like; and Z is Br or the like.
(FR)La membrane échangeuse d'anions ci-décrite est douée de résistance à la chaleur et résistance aux alcalis, peut contrôler les occurrences de trous d'épingles et la réduction de la résistance mécanique, même lorsque des membranes minces sont formées, et possède une résistance de membrane suffisamment basse. Son procédé de production est également décrit. Cette invention concerne, plus spécifiquement, un procédé de production d'une membrane d'échange d'anions consistant à faire réagir un composé (2) après polymérisation par greffage par un procédé de polymérisation par greffage sous rayonnement d'un composant monomère contenant un monomère (1) à un polymère sous forme de membrane en présence de 0.005 à 3 parties en poids d'un inhibiteur de polymérisation pour 100 parties en poids du composant monomère. Dans les formules, A est un groupe alkylène C3-8 ou autre groupe similaire ; R1 - R3 sont H, des groupes alkyle C1-6 ou autres groupes similaires ; et Z est Br ou autre.
(JA) 耐熱性および耐アルカリ性を有し、薄膜化してもピンホールの発生や強度の低下が抑えられ、かつ膜抵抗が充分に低い陰イオン交換膜およびその製造方法を提供する。 膜状のポリマーにモノマー(1)を含むモノマー成分を、モノマー成分の100質量部に対して0.005~3質量部の重合禁止剤の存在下に放射線グラフト重合法によってグラフト重合させた後、化合物(2)を反応させる陰イオン交換膜の製造方法。 AはC3~8のアルキレン基等、R~RはH、C1~6のアルキル基等、ZはBr等。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)