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1. (WO2011136106) POLISHING FLUID COMPOSITION FOR GLASS HARD DISC SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/136106    International Application No.:    PCT/JP2011/059740
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 20.04.2011
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), G11B 5/84 (2006.01)
Applicants: KAO CORPORATION [JP/JP]; 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210 (JP) (For All Designated States Except US).
DOI Haruhiko; (For US Only)
Inventors: DOI Haruhiko;
Agent: IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER, 8-30, Tenmabashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5306026 (JP)
Priority Data:
2010-101094 26.04.2010 JP
2010-124647 31.05.2010 JP
Title (EN) POLISHING FLUID COMPOSITION FOR GLASS HARD DISC SUBSTRATES
(FR) COMPOSITION DE FLUIDE DE POLISSAGE POUR SUBSTRATS DE DISQUE DUR EN VERRE
(JA) ガラスハードディスク基板用研磨液組成物
Abstract: front page image
(EN)Provided is a polishing fluid composition for glass hard disc substrates which combines a high polish rate and high cleanliness and which, even when used in a fluid-circulating polishing system, can keep a high polish rate for a long time. A polishing fluid composition for glass hard disc substrates which comprises an amine compound, an acid, silica particles, and water, wherein the amine compound is selected from the group consisting of amino alcohols, piperazine, and derivatives thereof and contains two or three nitrogen atoms in the molecule, at least one of the nitrogen atoms being in the form of a primary or secondary amine.
(FR)La présente invention concerne une composition de fluide de polissage pour substrats de disque dur en verre qui combine un taux de polissage élevé et une grande propreté et qui, même lorsqu'ils sont utilisés dans un système de polissage par circulation de fluides, peut maintenir un taux de polissage élevé pendant une longue période. La présente invention concerne en outre une composition de fluide de polissage pour substrats de disque dur en verre qui comprend un composé amine, un acide, des particules de silice, et de l'eau, le composé amine étant choisi dans le groupe constitué par les alcools aminés, la pipérazine, et leurs dérivés et contenant deux ou trois atomes d'azote dans la molécule, au moins un des atomes d'azote étant sous la forme d'une amine primaire ou secondaire.
(JA)高研磨速度と高清浄性の両立を実現でき、循環研磨において長時間高い研磨速度を維持できるガラスハードディスク基板用研磨液組成物を提供する。本発明は、一態様において、アミン化合物と、酸と、シリカ粒子と、水とを含有するガラスハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記アミン化合物は、アミノアルコール並びにピペラジン及びその誘導体からなる群から選択され、分子内に窒素原子を2個又は3個有し、そのうち少なくとも1個は1級アミンもしくは2級アミンであるガラスハードディスク基板用研磨液組成物に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)