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1. (WO2011135273) IMPLANT HAVING THREE-DIMENSIONAL SHAPE FOR ELECTRICALLY STIMULATING A NERVE STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/135273    International Application No.:    PCT/FR2011/050984
Publication Date: 03.11.2011 International Filing Date: 29.04.2011
IPC:
A61N 1/05 (2006.01), A61N 1/372 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITE PIERRE ET MARIE CURIE (PARIS 6) [FR/FR]; 4, place Jussieu F-75005 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
LORACH, Henri [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DJILAS, Milan [RS/FR]; (FR) (For US Only).
YVERT, Blaise [FR/FR]; (FR) (For US Only).
BERGONZO, Philippe [FR/FR]; (FR) (For US Only).
LISSORGUES, Gaelle [FR/FR]; (FR) (For US Only).
ROUSSEAU, Lionel [FR/FR]; (FR) (For US Only).
BENOSMAN, Ryad, Benjamin [FR/FR]; (FR) (For US Only).
PICAUD, Serge [FR/FR]; (FR) (For US Only).
SAHEL, José [FR/FR]; (FR) (For US Only).
IENG, Siohoi [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: LORACH, Henri; (FR).
DJILAS, Milan; (FR).
YVERT, Blaise; (FR).
BERGONZO, Philippe; (FR).
LISSORGUES, Gaelle; (FR).
ROUSSEAU, Lionel; (FR).
BENOSMAN, Ryad, Benjamin; (FR).
PICAUD, Serge; (FR).
SAHEL, José; (FR).
IENG, Siohoi; (FR)
Agent: LOISEL, Bertrand; Cabinet Plasseraud 52, rue de la Victoire F-75440 Paris Cedex 09 (FR)
Priority Data:
1053381 30.04.2010 FR
Title (EN) IMPLANT HAVING THREE-DIMENSIONAL SHAPE FOR ELECTRICALLY STIMULATING A NERVE STRUCTURE
(FR) IMPLANT A GEOMETRIE TRIDIMENSIONNELLE POUR LA STIMULATION ELECTRIQUE D'UNE STRUCTURE NERVEUSE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to an implant which includes, in order to electrically stimulate a nerve structure, in particular the retina, an electrically insulating substrate (1), a network of recesses (2) formed in an upper surface of the substrate, stimulation electrodes (3) arranged at the bottom of the recesses, and an electrically conductive layer forming a floorplan (4) at the upper portion of the recesses. The sizes of the recesses and of the electrodes of the implant are such that the spatial selectivity of the stimulation current applied to the nerve structure are maximised.
(FR)Pour stimuler électriquement une structure nerveuse, notamment la rétine, l'implant comprend un substrat électriquement isolant (1), un réseau de cavités (2) formées dans une surface supérieure du substrat, des électrodes de stimulation (3) disposées au fond des cavités, et une couche électriquement conductrice formant un plan de masse (4) en partie supérieure des cavités. Les dimensions des cavités et des électrodes de l'implant peuvent être dimensionnées pour maximiser la sélectivité spatiale du courant de stimulation appliqué à la structure nerveuse.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)