(EN) Disclosed is a moisture-resistant film (10) in which a moisture-resistant coating (12) is provided on the surface of a film main body (11). The moisture-resistant film (10) is characterized in that: the moisture-resistant coating (12) comprises a first layer (11a), which is composed of a silicon oxycarbonitride compound that contains a carbon atom in the composition, and a second layer (11b), which is composed of a silicon oxynitride compound that contains less carbon atoms than the first layer (11a) or has a composition that contains no carbon atom, and which has a higher density than the first layer (11a); the first layer (11a) and the second layer (11b) are laminated adjacent to each other; and the density of the first layer (11a) is increased toward the second layer (11b).
(FR) L'invention porte sur un film résistant à l'humidité (10), dans lequel un revêtement résistant à l'humidité (12) est disposé sur la surface d'un corps principal de film (11). Le film résistant à l'humidité (10) est caractérisé en ce que : le revêtement résistant à l'humidité (12) comprend une première couche (11a), qui est constituée par un composé d'oxycarbonitrure de silicium qui contient un atome de carbone dans la composition, et une seconde couche (11b), qui est constituée par un composé d'oxynitrure de silicium qui contient moins d'atomes de carbone que la première couche (11a), ou qui a une composition qui ne contient pas d'atome de carbone, et qui a une densité supérieure à celle de la première couche (11a) ; la première couche (11a) et la seconde couche (11b) sont stratifiées au voisinage l'une de l'autre ; et la densité de la première couche (11a) est accrue vers la seconde couche (11b).
(JA) 防湿フィルム（１０）は、フィルム本体（１１）の表面に防湿膜（１２）が設けられたものであって、防湿膜（１２）は、組成に炭素原子を含んだ酸化炭化窒化ケイ素化合物からなる第１層（１１ａ）と、上記第１層（１１ａ）よりも含有する炭素原子の少ない又は炭素原子を含まない組成の酸窒化ケイ素化合物からなり、該第１層（１１ａ）よりも密度が大きい第２層（１１ｂ）と、を含み、上記第１層（１１ａ）と上記第２層（１１ｂ）とは隣接して積層されており、上記第１層（１１ａ）は上記第２層（１１ｂ）側にいくに従って密度が高くなっていることを特徴とする。