(EN) Disclosed is a radiation-sensitive composition that is used in step 1 of a method for forming a resist pattern that contains: (1) a step for forming a first resist pattern on a substrate using a first radiation-sensitive composition; (2) a step for insolubilizing the first resist pattern with respect to a second radiation-sensitive composition; and (3) a step for using the second radiation-sensitive composition to form a second resist pattern on the substrate whereupon the first resist pattern had been formed. The radiation-sensitive composition contains: (A) a polymer containing a repeating unit that has an acid labile group; (B) a polymer containing a repeating unit that has a fluorine atom, and a repeating unit that has a crosslinking group; (C) a radiation-sensitive acid generator; and (D) a solvent.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible aux rayonnements qui est utilisée dans l'étape 1 d'un procédé permettant de former un motif de photorésine. Ledit procédé comprend : (1) une étape permettant de former un premier motif de photorésine sur un substrat à l'aide d'une première composition sensible aux rayonnements ; (2) une étape permettant d'insolubiliser le premier motif de photorésine par rapport à une seconde composition sensible aux rayonnements ; et (3) une étape permettant d'utiliser la seconde composition sensible aux rayonnements afin de former un second motif de photorésine sur le substrat sur lequel le premier motif de photorésine a été formé. La composition sensible aux rayonnements contient : (A) un polymère contenant un motif récurrent qui comporte un groupe labile acide ; (B) un polymère contenant un motif récurrent qui comporte un atome de fluor et un motif récurrent qui comporte un groupe de réticulation ; (C) un générateur d'acide sensible aux rayonnements ; et (D) un solvant.
(JA) 第一の感放射線性組成物を用いて、基板上に第一のレジストパターンを形成する工程(1)と、第一のレジストパターンを、第二の感放射線性組成物に対して不溶化させる工程(2)と、第二の感放射線性組成物を用いて、第一のレジストパターンが形成された基板上に第二のレジストパターンを形成する工程(3)と、を含むレジストパターン形成方法の工程(1)で用いられる、(A)酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体と、(B)架橋基を有する繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含む重合体と、(C)感放射線性酸発生剤と、(D)溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。