Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2011053599) ENDOMETRIAL ABLATION DEVICES AND SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2011/053599 International Application No.: PCT/US2010/054150
Publication Date: 05.05.2011 International Filing Date: 26.10.2010
IPC:
A61B 18/04 (2006.01)
A HUMAN NECESSITIES
61
MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
B
DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
18
Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
04
by heating
Applicants:
HERMES INNOVATIONS LLC [US/US]; 20195 Stevens Creek Blvd., Suite 120 Saratoga, CA 95070, US (AllExceptUS)
TRUCKAI, Csaba [US/US]; US (UsOnly)
TOTH, Akos [HU/HU]; HU (UsOnly)
Inventors:
TRUCKAI, Csaba; US
TOTH, Akos; HU
Agent:
WYLIE, Roger, D.; Townsend and Townsend and Crew LLP Two Embarcadero Center, 8th Floor San Francisco, CA 94111, US
Priority Data:
12/605,54626.10.2009US
12/605,92926.10.2009US
Title (EN) ENDOMETRIAL ABLATION DEVICES AND SYSTEM
(FR) DISPOSITIFS ET SYSTÈME D'ABLATION DE L'ENDOMÈTRE
Abstract:
(EN) Systems and methods for endometrial ablation. The systems include a handle and elongated introducer sleeve extending to an expandable working end having a fluid-tight interior chamber. A thin dielectric wall surrounds at least a portion of the interior chamber and has an external surface for contacting endometrial tissue. The thin dielectric wall surrounds a collapsible-expandable frame and receives an electrically non-conductive gas. First and second polarity electrodes are exposed to the interior and exterior of the chamber, respectively. A radiofrequency power source operatively connects to the electrode arrangement to apply a radiofrequency voltage across the first and second electrodes, wherein the voltage is sufficient to initiate ionization of the neutral gas into a conductive plasma within the interior chamber, and to capacitively couple the current in the plasma across the thin dielectric wall to ablate endometrial tissue engaged by the external surface of the dielectric structure.
(FR) L'invention porte sur des systèmes et sur des procédés pour l'ablation de l'endomètre. Les systèmes comprennent une poignée et un manchon d'introducteur allongé s'étendant vers une extrémité de travail expansible ayant une chambre intérieure étanche aux fluides. Une paroi diélectrique mince entoure au moins une partie de la chambre intérieure et a une surface externe pour venir en contact avec le tissu de l'endomètre. La paroi diélectrique mince entoure un cadre expansible repliable et reçoit un gaz non conducteur électriquement. Des première et seconde électrodes de polarité sont exposées à l'intérieur et à l'extérieur de la chambre, respectivement. Une source d'énergie par radiofréquence est reliée de manière fonctionnelle à l'agencement d'électrodes pour appliquer une tension de radiofréquence à travers les première et seconde électrodes, la tension étant suffisante pour démarrer l'ionisation du gaz neutre en plasma conducteur à l'intérieur de la chambre interne et pour coupler de manière capacitive le courant en plasma à travers la paroi diélectrique mince pour effectuer une ablation du tissu de l'endomètre qui vient en prise avec la surface externe de la structure diélectrique.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)