(EN) A method of controlling a spectral property of a light beam includes directing a light beam to a lithography exposure apparatus configured to create a pattern on a wafer; receiving information representative of a spectral property of the light beam; receiving information representative of an optical imaging condition of the lithography exposure apparatus; estimating a characteristic value of the light beam based on the received spectral property information and the received optical imaging condition information; determining whether the estimated light beam characteristic value matches a target light beam characteristic value; and if it is determined that the estimated light beam characteristic value does not match the target light beam characteristic value, adjusting the spectral property of the light beam.
(FR) L'invention concerne un procédé de commande d'une propriété spectrale d'un faisceau lumineux comprenant les étapes consistant à: adresser un faisceau lumineux vers un appareil d'exposition lithographique configuré de façon à créer un motif sur une tranche, recevoir une information représentant une propriété spectrale du faisceau lumineux, recevoir une information représentant un état d'imagerie optique de l'appareil d'exposition lithographique, estimer une valeur caractéristique du faisceau lumineux sur la base de l'information reçue sur la propriété spectrale et de l'information reçue sur l'état d'imagerie optique, déterminer si la valeur caractéristique déterminée pour le faisceau lumineux correspond à une valeur cible caractéristique du faisceau lumineux, et s'il est déterminé que la valeur caractéristique estimée du faisceau lumineux ne correspond pas à la valeur cible caractéristique du faisceau lumineux, régler la propriété spectrale du faisceau lumineux.