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1. WO2011024301 - MANUFACTURING METHOD OF PLANAR OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE WITH GRATING STRUCTURE

Publication Number WO/2011/024301
Publication Date 03.03.2011
International Application No. PCT/JP2009/065146
International Filing Date 25.08.2009
IPC
G02B 6/13 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
CPC
B82Y 20/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
20Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
G02B 2006/12107
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
12083Constructional arrangements
12107Grating
G02B 6/1223
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
1223high refractive index type, i.e. high-contrast waveguides
G02B 6/124
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
124Geodesic lenses or integrated gratings
G02B 6/136
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
136by etching
Applicants
  • FUJIKURA LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH [SG]/[SG] (AllExceptUS)
  • SAKUMA, Ken [JP]/[JP] (UsOnly)
  • OGAWA, Kensuke [JP]/[JP] (UsOnly)
  • GOI, Kazuhiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • TAN, Yong, Tsong [SG]/[JP] (UsOnly)
  • GUAN, Ning [CN]/[JP] (UsOnly)
  • YU, Mingbin [CN]/[SG] (UsOnly)
  • TEO, Hwee, Gee [SG]/[SG] (UsOnly)
  • LO, Guo-Qiang [US]/[SG] (UsOnly)
Inventors
  • SAKUMA, Ken
  • OGAWA, Kensuke
  • GOI, Kazuhiro
  • TAN, Yong, Tsong
  • GUAN, Ning
  • YU, Mingbin
  • TEO, Hwee, Gee
  • LO, Guo-Qiang
Agents
  • SHIGA, Masatake
Priority Data
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) MANUFACTURING METHOD OF PLANAR OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE WITH GRATING STRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE PLAN À STRUCTURE DE RÉSEAU
Abstract
(EN)
A method for manufacturing a planar optical waveguide device including a core of which a top face is provided with a groove section filled with a groove section filler made of a low refractive index material having a refractive index lower than that of the core, the method including; a first high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer; a low refractive index material layer forming step of forming a low refractive index material layer made of the low refractive index material on the high refractive index material layer; a groove section filler forming step of forming the groove section filler by trimming both lateral portions of the low refractive index material layer; and a second high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer so as to fill the both sides of the lateral portions of the groove section filler.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif de guide d'ondes optique plan comprenant un noyau dont une face supérieure est dotée d'une section de rainure remplie d'une charge de section de rainure constituée d'un matériau à faible indice de réfraction ayant un indice de réfraction inférieur à celui du noyau, le procédé comprenant : une première étape de formation de couche de matériau à indice de réfraction élevé consistant à former une couche de matériau à indice de réfraction élevé ; une étape de formation de couche de matériau à faible indice de réfraction consistant à former une couche de matériau à faible indice de réfraction fabriquée à partir du matériau à faible indice de réfraction sur la couche de matériau à indice de réfraction élevé ; une étape de formation de charge de section de rainure consistant à former la charge de section de rainure en rognant les deux parties latérales de la couche de matériau à faible indice de réfraction ; et une seconde étape de formation de couche de matériau à indice de réfraction élevé consistant à former une couche de matériau à indice de réfraction élevé de manière à remplir les deux côtés des parties latérales de la charge de section de rainure.
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau