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1. (WO2011021723) OBJECT PROCESSING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/021723    International Application No.:    PCT/JP2010/064430
Publication Date: 24.02.2011 International Filing Date: 19.08.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), B65G 49/06 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
AOKI, Yasuo [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AOKI, Yasuo; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Priority Data:
2009-190654 20.08.2009 JP
Title (EN) OBJECT PROCESSING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE POSITIONNEMENT D'OBJET, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)A plurality of air levitation units (50) that jet air to the lower surface of a substrate (P) are placed below the substrate (P), and the substrate (P) is supported in a noncontact manner so as to be substantially horizontal. Further, a portion subject to exposure of the substrate (P) is held from below in a noncontact manner by a chuck main body (81) that a fixed-point stage (40) has, and a surface position of the portion subject to exposure is adjusted in a pinpoint manner. Consequently, exposure can be performed on the substrate (P) with high precision. Since the chuck main body (81) moves in a scanning direction according to the position of the substrate, the chuck main body can surely hold the substrate even when the substrate proceeds into an exposure area (IA).
(FR)Selon l'invention, une pluralité d'unités de lévitation à l'air (50) qui projettent de l'air en direction de la surface inférieure d'un substrat (P) sont placées en dessous du substrat (P), et le substrat (P) est supporté sans contact de manière à être sensiblement horizontal. En outre, une partie exposée du substrat (P) est maintenue par le dessous par une action sans contact par un corps principal de mandrin (81) dont un support fixe (40) est pourvu, et une position de surface de la partie exposée est réglée avec une très grande précision. Par conséquent, l'exposition peut être réalisée sur le substrat (P) avec une grande précision. Etant donné que le corps principal de mandrin (81) se déplace dans une direction de balayage en fonction de la position du substrat, le corps principal de mandrin peut maintenir fermement le substrat même lorsque le substrat avance dans une région d'exposition (IA).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)