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1. (WO2011021346) PATTERN SHAPE ESTIMATION METHOD AND PATTERN MEASURING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/021346    International Application No.:    PCT/JP2010/004589
Publication Date: 24.02.2011 International Filing Date: 15.07.2010
IPC:
G01B 15/04 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
TANAKA, Maki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HASEGAWA, Norio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHISHIDO, Chie [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OSAKI, Mayuka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANAKA, Maki; (JP).
HASEGAWA, Norio; (JP).
SHISHIDO, Chie; (JP).
OSAKI, Mayuka; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2009-191567 21.08.2009 JP
Title (EN) PATTERN SHAPE ESTIMATION METHOD AND PATTERN MEASURING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'ESTIMATION DE FORME DE MOTIF ET DISPOSITIF DE MESURE DE MOTIF
(JA) パターン形状推定方法、及びパターン測定装置
Abstract: front page image
(EN)Provided are a pattern shape estimation method and a pattern measuring device which are capable of more appropriately estimating pattern shapes. Under different conditions, multiple pattern cross-sectional shapes are obtained by exposure process simulations. Each of the aforementioned multiple pattern cross-sectional shapes is used to estimate waveforms. The estimation results are stored in a library. The actual waveform obtained during measurement is compared with the estimated waveforms, a selection is made of the estimated waveform that best matches with the actual waveform, and the shape of the measured pattern is estimated.
(FR)L'invention porte sur un procédé d'estimation de forme de motif et sur un dispositif de mesure de motif qui sont capables d'estimer de manière plus appropriée des formes de motif. Selon différentes conditions, de multiples formes en coupe transversale de motif sont obtenues par des simulations de procédé d'exposition. Chacune des multiples formes en coupe transversale de motif mentionnées ci-dessus est utilisée pour estimer des formes d'ondes. Les résultats d'estimation sont stockés dans une bibliothèque. La forme d'onde réelle obtenue lors de la mesure est comparée aux formes d'ondes estimées, on réalise une sélection de la forme d'onde estimée qui correspond le mieux à la forme d'onde réelle et la forme du motif mesuré est estimée.
(JA) パターンの形状をより適切に推定できるパターン形状推定方法及びパターン測定装置を提供する。 相異なる条件で複数のパターン断面形状を露光プロセスシミュレーションにより求め、該複数のパターン断面形状のそれぞれを用いて波形を推定し、ライブラリに記憶する。計測時に取得した実波形を該推定した波形と比較して、最も一致する波形を選択し、計測したパターンの形状を推定する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)