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1. (WO2011020369) METHOD FOR ESTABLISHING DIAMETER LINK AND DIAMETER NETWORK ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/020369    International Application No.:    PCT/CN2010/074025
Publication Date: 24.02.2011 International Filing Date: 17.06.2010
IPC:
H04L 29/06 (2006.01)
Applicants: ZTE CORPORATION [CN/CN]; ZTE Plaza Keji Road South, Hi-Tech Industrial Park, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057 (CN) (For All Designated States Except US).
SONG, Dameng [CN/CN]; (CN) (For US Only).
GAN, Bin [CN/CN]; (CN) (For US Only).
CHEN, Gang [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: SONG, Dameng; (CN).
GAN, Bin; (CN).
CHEN, Gang; (CN)
Agent: KANGXIN PARTNERS, P.C.; Floor 16, Tower A, Indo Building A48 Zhichun Road, Haidian District Beijing 100098 (CN)
Priority Data:
200910163463.9 17.08.2009 CN
Title (EN) METHOD FOR ESTABLISHING DIAMETER LINK AND DIAMETER NETWORK ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ D'ÉTABLISSEMENT D'UNE LIAISON DIAMÈTRE ET ÉLÉMENT DE RÉSEAU DIAMÈTRE
(ZH) Diameter链路的建立方法和Diameter网元
Abstract: front page image
(EN)A method for establishing a diameter link and a diameter network element are provided in the present invention. The method includes the first bottom layer bearer link and the second bottom layer bearer link between the first diameter node and the second diameter node are established (S302), the first diameter node transmits a capability exchange request message to the second diameter node through the first bottom layer bearer link or the second bottom layer bearer link (S304), if the capability exchange is successful, the first diameter node receives the success response from the second diameter node (S306). Therefore, when the current bottom layer bearer link bearing the diameter link is abnormal, the two diameter network elements can communicate with each other through the second bottom layer bearer link, which solves the problem of low reliability caused by the establishing method of the diameter link in the prior art, and improves the reliability of the diameter link.
(FR)L'invention porte sur un procédé d'établissement d'une liaison diamètre et sur un élément de réseau diamètre. Le procédé comprend l'établissement (S302) de la première liaison de support de couche inférieure et de la deuxième liaison de support de couche inférieure entre le premier nœud diamètre et le second nœud diamètre, la transmission par le premier nœud diamètre d'un message de demande d'échange de capacité au second nœud diamètre par la première liaison de support de couche inférieure ou la seconde liaison de support de couche inférieure (S304), et si l'échange de capacité est réussi, la réception par le premier nœud de diamètre d'une réponse de réussite à partir du second nœud diamètre (S306). Ainsi, lorsque la liaison de support de couche inférieure actuelle portant la liaison diamètre est anormale, les deux éléments de réseau diamètre peuvent communiquer l'un avec l'autre par la seconde liaison de support de couche inférieure, ce qui résout le problème de faible fiabilité provoqué par le procédé d'établissement de liaison diamètre selon l'état de la technique, et améliore la fiabilité de la liaison diamètre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)