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1. (WO2011019920) HIGH PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUSES, METHODS, AND COMPOSITIONS PRODUCED THEREWITH
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/019920    International Application No.:    PCT/US2010/045329
Publication Date: 17.02.2011 International Filing Date: 12.08.2010
IPC:
C23C 16/00 (2006.01)
Applicants: GEORGIA STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION, INC. [US/US]; Office of Legal Affairs 10 Park Place Suite 510 Atlanta, GA 30302-3987 (US) (For All Designated States Except US).
DIETZ, Nikolaus [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: DIETZ, Nikolaus; (US)
Agent: PAPPAS, Peter, G.; Sutherland Asbill & Brennan LLP 999 Peachtree Street NE Atlanta, GA 30309-3996 (US)
Priority Data:
61/233,238 12.08.2009 US
Title (EN) HIGH PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUSES, METHODS, AND COMPOSITIONS PRODUCED THEREWITH
(FR) APPAREILS ET PROCÉDÉS DE DÉPOSITION EN PHASE VAPEUR PAR PROCÉDÉ CHIMIQUE À HAUTE PRESSION, ET COMPOSITIONS PRODUITES AVEC CEUX-CI
Abstract: front page image
(EN)A composition, reactor apparatus, method, and control system for growing epitaxial layers of group Ill-nitride alloys. Super-atmospheric pressure is used as a process parameter to control the epitaxial layer growth where the identity of alloy layers differ within a heterostructure stack of two or more layers.
(FR)L'invention porte sur une composition, sur un appareil de réacteur, sur un procédé et sur système de régulation pour faire croître des couches épitaxiales d'alliages de nitrure du groupe III. Une pression super-atmosphérique est utilisée comme paramètre de traitement pour réguler la croissance de la couche épitaxiale là où l'identité de couches d'alliage diffère à l'intérieur d'un empilement d'hétérostructure de deux ou plusieurs couches.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)