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1. (WO2011019015) MICROPROCESSING TREATMENT AGENT AND MICROPROCESSING TREATMENT METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/019015    International Application No.:    PCT/JP2010/063480
Publication Date: 17.02.2011 International Filing Date: 09.08.2010
IPC:
H01L 21/308 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: STELLA CHEMIFA CORPORATION [JP/JP]; 3-6-3, Awaji-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410047 (JP) (For All Designated States Except US).
MIYASHITA, Masayuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUJIME, Takanobu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NII, Keiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HASEBE, Rui [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIMARU, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MIYASHITA, Masayuki; (JP).
KUJIME, Takanobu; (JP).
NII, Keiichi; (JP).
HASEBE, Rui; (JP).
ISHIMARU, Akira; (JP)
Agent: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1, 13-9, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011 (JP)
Priority Data:
2009-186741 11.08.2009 JP
Title (EN) MICROPROCESSING TREATMENT AGENT AND MICROPROCESSING TREATMENT METHOD USING SAME
(FR) AGENT DE MICROTRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE MICROTRAITEMENT UTILISANT L'AGENT
(JA) 微細加工処理剤、及びそれを用いた微細加工処理方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are a microprocessing treatment agent, which is capable of selectively microprocessing silicon-oxide film in multilayer film containing silicon-nitride film and silicon-oxide film, and a microprocessing treatment method using the treatment agent. The microprocessing treatment agent is used in the microprocessing of the subject to be processed, in which silicon-nitride film and silicon-oxide film are formed, and contains: component (A) and/or component (B); and also contains component (C) and component (D), wherein the components are as follows: (A) 0.01-20 mass % of hydrogen fluoride; (B) 0.1-20 mass % of either ammonium fluoride or quarternary ammonium fluoride; (C) 1-80 mass % of at least one from the group consisting of: hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and phosphoric acid; and (D) water, and the total inclusion weight of component (C) and either component (A) or component (B) is not greater than 90 mass % of the total weight of the microprocessing treatment agent.
(FR)La présente invention concerne un agent de microtraitement, capable de traiter sélectivement par microtraitement un film d'oxyde de silicium en un film multicouche contenant un film de nitrure de silicium et un film d'oxyde de silicium, ainsi qu'un procédé de microtraitement utilisant l'agent de traitement. L'agent de microtraitement est utilisé dans le microtraitement du sujet à traiter, dans lequel sont formés le film de nitrure de silicium et le film d'oxyde de silicium, et contient : un composant (A) et/ou un composant (B) ; et également un composant (C) et un composant (D). Les composants sont constitués comme suit : (A) 0,01 à 20 % en masse de fluorure d'hydrogène ; (B) 0,01 à 20 % en masse de fluorure d'ammonium ou de fluorure d'ammonium quaternaire ; (C) 1 à 80 % en masse d'au moins un acide provenant du groupe constitué par de l'acide chlorhydrique, de l'acide nitrique, de l'acide sulfurique, et de l'acide phosphorique ; et (D) de l'eau. Le poids total d'inclusion du composant (C) et soit du composant (A) ou du composant (B) ne dépasse pas 90 % du poids total de l'agent de microtraitement.
(JA) シリコン窒化膜及びシリコン酸化膜の積層膜に対して、シリコン酸化膜を選択的に微細加工することが可能な微細加工処理剤、及びそれを用いた微細加工処理方法を提供する。 本発明の微細加工処理剤は、シリコン窒化膜及びシリコン酸化膜が形成された被処理物の微細加工に用いる微細加工処理剤であって、下記(A)成分又は(B)成分の少なくとも何れか一方と、下記(C)成分と、下記(D)成分とを含み、下記(A)成分又は(B)成分の少なくとも何れか一方と、(C)成分との含有量の合計が、微細加工処理剤の全体量に対し90重量%以下である。 (A)成分:0.01重量%~20重量%のフッ化水素 (B)成分:0.1重量%~20重量%のフッ化アンモニウム、又は第四級アンモニウムフロライドの少なくとも何れか一方 (C)成分:1重量%~80重量%の塩酸、硝酸、硫酸及びリン酸からなる群より選択される少なくとも何れか1種の酸 (D)成分:水
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)