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1. (WO2011017305) SPINOUS PROCESS SPACER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/017305    International Application No.:    PCT/US2010/044223
Publication Date: 10.02.2011 International Filing Date: 03.08.2010
Chapter 2 Demand Filed:    02.03.2011    
IPC:
A61F 2/44 (2006.01)
Applicants: LIFE SPINE, INC. [US/US]; 2401 West Hassell Road Suite 1535 Hoffman Estates, IL 60169 (US) (For All Designated States Except US).
HARTSELL, Brian, D. [US/US]; (US) (For US Only).
BUCCI, Kara, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HARTSELL, Brian, D.; (US).
BUCCI, Kara, A.; (US)
Agent: BOWMAN, Bruce, J.; 1016 3rd Ave. SW Suite 106 Carmel, IN 46032 (US)
Priority Data:
61/230,794 03.08.2009 US
Title (EN) SPINOUS PROCESS SPACER
(FR) ESPACEUR POUR APOPHYSE ÉPINEUSE
Abstract: front page image
(EN)A spinous process spacer that is designed to maintain a desired spatial relationship between adjacent vertebrae, is configured for introduction into a spinal implant site in a compressed state and then expands in situ. Once expanded, formations of the present spinal spacer form areas, pockets or spaces that receive at least one bony portion of each adjacent vertebra. The present spinous process spacer has a changeable circumferential profile wherein a first circumferential profile is smaller than a second circumferential profile in order to provide/achieve its compressed and expanded states. The first circumferential profile defines the collapsed position or state while the second circumferential profile defines the position or state. Upon implantation, the present spinous process spacer is not fixed to any bony structure of the vertebrae but provides support In this regard, use of the spinous process spacer, by itself, will not result in vertebral fusion.
(FR)L'invention porte sur un espaceur pour apophyse épineuse, lequel espaceur est conçu pour maintenir une relation spatiale souhaitée entre des vertèbres adjacentes, est configuré pour une introduction dans un site d'implant spinal dans un état comprimé puis une extension in situ. Une fois étendu, des formations du présent espaceur spinal forment des zones, des poches ou des espaces qui reçoivent au moins une partie osseuse de chaque vertèbre adjacente. Le présent espaceur pour apophyse épineuse a un profil circonférentiel apte à changer, un premier profil circonférentiel étant plus petit qu'un second profil circonférentiel afin de produire/atteindre ses états comprimés et étendus. Le premier profil circonférentiel définit la position ou état plié tandis que le second profil circonférentiel définit la position ou état implanté. Lors de l'implantation, le présent espaceur pour apophyse épineuse n'est pas fixé à une quelconque structure osseuse des vertèbres mais fournit un support. À cet égard, l'utilisation de l'espaceur pour apophyse épineuse, en lui-même, ne conduira pas à une spondylodèse.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)