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Pub. No.:    WO/2011/016208    International Application No.:    PCT/JP2010/004843
Publication Date: 10.02.2011 International Filing Date: 30.07.2010
H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
CHENG, Zhaohui [CN/JP]; (JP) (For US Only).
KOYAMA, Hikaru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KIMURA, Yoshinobu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHINADA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOMURO, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: CHENG, Zhaohui; (JP).
KOYAMA, Hikaru; (JP).
KIMURA, Yoshinobu; (JP).
SHINADA, Hiroyuki; (JP).
KOMURO, Osamu; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2009-184001 07.08.2009 JP
2009-241966 21.10.2009 JP
(JA) 走査型電子顕微鏡及び試料観察方法
Abstract: front page image
(EN)A scanning electron microscope, when forming an image of an area to be scanned by scanning a two-dimensional area of a sample (8) with an electron beam (4), changes a scanning line density according to the sample to scan the area, comprises a GUI (401) that includes a sample information input means for inputting information on the sample (8) and a display means (405) for displaying recommended scanning conditions based on the input, and scans the area at the scanning line density based on the sample by selecting the recommended scanning conditions. Thus, a scanning device and a scanning method suitable for observation performed by using the scanning electron microscope can be provided, which can improve a contour contrast of a two-dimensional pattern and suppress shading by reducing the influence of charging caused by primary-charged particle beam irradiation to increase a secondary electron detection rate.
(FR)L'invention porte sur un microscope électronique à balayage qui, lors de la formation d'une image d'une zone devant être analysée par balayage d'un faisceau d'électrons (4) sur une zone bidimensionnelle d'un échantillon (8), modifie selon l'échantillon la densité des lignes de balayage de la zone, et comprend une interface graphique d'utilisateur (GUI) (401) comprenant un moyen d'entrée d'informations d'échantillon destiné à entrer des informations sur l'échantillon (8) et un moyen d'affichage (405) destiné à afficher des conditions de balayage recommandées basées sur l'entrée, et balaie la zone selon la densité de lignes de balayage basée sur l'échantillon par sélection des conditions de balayage recommandées. On peut ainsi obtenir un dispositif de balayage et un procédé de balayage appropriés pour une observation réalisée au moyen du microscope électronique à balayage, ce qui peut améliorer le contraste de contours d'une configuration bidimensionnelle et supprimer les ombrages par réduction de l'influence d'une charge due à une exposition à un faisceau de particules chargées primaires destiné à augmenter un taux de détection d'électrons secondaires.
(JA) 本発明の走査型電子顕微鏡は、試料(8)上の二次元領域に対し電子線(4)を走査して走査領域の画像を形成する際に、試料に応じて走査線密度を変化させて走査すること、又は、試料(8)に関する情報を入力する試料情報入力手段と、前記入力に応じた推奨走査条件を表示する表示手段(405)とを有するGUI(401)を備え、該推奨走査条件を選択することによって前記試料に応じた走査線密度で走査すること、を特徴とする。これにより、走査型電子顕微鏡を用いた観察の際に、一次荷電粒子線照射起因帯電の影響を抑制し、二次電子の検出率を向上させることで二次元パターンの輪郭のコントラストを向上させると共にシェーディングを抑制できる好適な走査装置及び走査方法を提供することが可能になった。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)