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1. (WO2011016091) GAS FILLING DEVICE AND GAS FILLING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/016091    International Application No.:    PCT/JP2009/003803
Publication Date: 10.02.2011 International Filing Date: 07.08.2009
IPC:
F17C 5/06 (2006.01)
Applicants: TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Toyota-cho, Toyota-shi, Aichi 4718571 (JP) (For All Designated States Except US).
OKAWACHI, Eiji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OKAWACHI, Eiji; (JP)
Agent: INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES, 23rd Floor, Roppongi Hills Mori Tower, 6-10-1 Roppongi, Minato-ku, Tokyo 1066123 (JP)
Priority Data:
Title (EN) GAS FILLING DEVICE AND GAS FILLING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE REMPLISSAGE DE GAZ
(JA) ガス充填装置及びガス充填方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a gas filling device and a gas filling method wherein the time required for filling a gas storage container with fuel gas from the gas filling device can be shortened, and the occurrence of pressure fluctuation is less likely in the initial gas filling stage. The gas filling device comprises a gas supply source (10) for supplying fuel gas, a high-flow-rate filling line (30) connected with the gas supply source (10) so as to fill a gas storage container (101) with fuel gas at a high flow rate, a low-flow-rate filling line (20) connected with the gas supply source (10) so as to fill the gas storage container (101) with fuel gas at a flow rate lower than that of the high-flow-rate filling line (30), and a control means (50) for controlling the flow rate of fuel gas which flows through the high-flow-rate filling line (30) and the low-flow-rate filling line (20), wherein the control means (50) controls the flow rate of fuel gas in such a manner that the gas storage container is first filled with a predetermined quantity of fuel gas through the low-flow-rate filling line (20) and then filled with the fuel gas through the high-flow-rate filling line (30).
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé de remplissage de gaz, la durée nécessaire pour remplir un réservoir à gaz avec un gaz combustible provenant du dispositif de remplissage de gaz pouvant être réduite, et le risque de fluctuation de pression étant moins probable à l'étape initiale de remplissage de gaz. Le dispositif de remplissage de gaz comprend une source d'alimentation en gaz (10) destinée à fournir un gaz combustible, une conduite de remplissage à haut débit (30) reliée à la source d'alimentation en gaz (10) de façon à remplir un réservoir à gaz (101) avec du gaz combustible à un débit élevé, une conduite de remplissage à faible débit (20) reliée à la source d'alimentation en gaz (10) de façon à remplir le réservoir à gaz (101) avec du gaz combustible à un débit inférieur à celui de la conduite de remplissage à haut débit (30), et des moyens de commande (50) destinés à contrôler le débit du gaz combustible qui circule dans la conduite de remplissage à haut débit (30) et la conduite de remplissage à faible débit (20), les moyens de commande (50) contrôlant le débit du gaz combustible afin que le réservoir à gaz soit tout d'abord rempli avec une quantité prédéterminée de gaz combustible par la conduite de remplissage à faible débit (20) et soit ensuite rempli avec le gaz combustible par la conduite de remplissage à haut débit (30).
(JA)ガス充填装置からガス貯留容器に燃料ガスを充填する時間を短縮できると共に、ガス充填初期における圧力変動の発生を緩和することが可能なガス充填装置及びガス充填方法を提供する。燃料ガスを供給するガス供給源(10)と、ガス供給源(10)に接続され、ガス貯留容器(101)に大流量の燃料ガスを充填する大流量充填ライン(30)と、ガス供給源(10)に接続され、ガス貯留容器(101)に、大流量充填ライン(30)よりも小流量の燃料ガスを充填する小流量充填ライン(20)と、大流量充填ライン(30)及び小流量充填ライン(20)を流通する燃料ガスの流量を制御する制御手段(50)を備え、制御手段(50)は、小流量充填ライン(20)から所定量の燃料ガスを充填した後、大流量充填ライン(30)から前記燃料ガスを充填するよう制御する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)