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1. (WO2011013702) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/013702    International Application No.:    PCT/JP2010/062699
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 28.07.2010
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Applicants: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2478610 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUSHIMA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUSHIMA, Daisuke; (JP)
Agent: HYUGAJI, Masahiko; Kannai ST Bldg., 4-1, Onoe-cho 1-chome, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2310015 (JP)
Priority Data:
2009-175076 28.07.2009 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Abstract: front page image
(EN)The disclosed plasma processing device is characterized by being provided with a processing receptacle that can maintain ambient air that has been depressurized from atmospheric pressure; a depressurization unit that depressurizes the interior of the aforementioned processing receptacle to a predetermined pressure; a carrying unit that carries an object to be processed that is provided within the aforementioned processing receptacle; a discharge tube that has therein a region wherein plasma is generated and that is provided at a location at a distance from the aforementioned processing receptacle; an introducing waveguide tube that propagates microwaves radiated from a microwave generating unit and that introduces microwaves to the aforementioned region wherein plasma is generated; a gas supply unit that supplies process gas to the aforementioned region wherein plasma is generated; a transport tube that connects the aforementioned discharge tube and the aforementioned processing receptacle; and a first heat detection unit that detects the heat of the aforementioned discharge tube.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma, qui est caractérisé en ce qu'il comporte un réceptacle de traitement permettant de maintenir l'air ambiant dont la pression a été réduite par rapport à la pression atmosphérique; une unité de dépressurisation qui abaisse la pression à l'intérieur dudit réceptacle de traitement à une pression prédéterminée; une unité de support qui porte un objet à traiter dans ledit réceptacle de traitement; un tube de décharge qui contient une région dans laquelle le plasma est produit, et qui se situe à une certaine distance dudit réceptacle de traitement; un tube de guide d'ondes d'introduction qui propage les hyperfréquences produites par une unité générant des hyperfréquences et introduit celles-ci dans la région mentionnée où le plasma est produit; une unité d'apport de gaz qui fournit un gaz de traitement vers ladite région où le plasma est produit; un tube de transport qui relie ledit tube de décharge au réceptacle de traitement; et une première unité de détection de chaleur qui détecte la chaleur dudit tube de décharge.
(JA) 本発明の実施形態に係るプラズマ処理装置は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、前記処理容器の内部に設けられた被処理物を載置する載置部と、内部にプラズマを発生させる領域を有し、前記処理容器から離隔された位置に設けられた放電管と、マイクロ波発生部から放射されたマイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域にマイクロ波を導入する導入導波管と、前記プラズマを発生させる領域にプロセスガスを供給するガス供給部と、前記放電管と、前記処理容器と、を連通させる輸送管と、前記放電管の温度を検出する第1の温度検出部と、を備えたことを特徴とする。 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)