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1. (WO2011013615) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING SURFACTANT AND COMPOSITIONS CONTAINING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/013615    International Application No.:    PCT/JP2010/062517
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 26.07.2010
IPC:
C07C 305/04 (2006.01), B01F 17/00 (2006.01), B01F 17/16 (2006.01), C07C 309/14 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01)
Applicants: AGC SEIMI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 3-2-10, Chigasaki, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538585 (JP) (For All Designated States Except US).
TSUGITA Katsuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MITSUHASHI Masato [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TSUGITA Katsuyuki; (JP).
MITSUHASHI Masato; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; Hayakawa-tonakai Bldg. 3F, 12-5, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Priority Data:
2009-179070 31.07.2009 JP
Title (EN) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING SURFACTANT AND COMPOSITIONS CONTAINING SAME
(FR) COMPOSÉ FLUORÉ, TENSIOACTIF FLUORÉ ET COMPOSITIONS LES CONTENANT
(JA) 含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物
Abstract: front page image
(EN)Provided is a fluorine-containing compound represented by general formula (1), which exhibits an excellent surface tension lowering effect, though the fluorine-containing compound is a low-environment-load type, fluorine-containing material that does not contain a perfluoroalkyl group having a chain length of 8 or longer, said perfluoroalkyl group being causative of problems associated with PFOS and PFOA. Also provided are a fluorine-containing surfactant, compositions containing the fluorine-containing surfactant, and an aqueous resin emulsion and a floor-polishing composition which each contain the fluorine-containing surfactant. Rf1-CpH2p-CH(OH)-CqH2q-NR-CrH2r-(O)n-SO3M (1) In general formula (1), Rf1 is a C1-6 perfluoroalkyl group; p, q and r are each independently an integer of 1 to 6; M is a cationic atom or atomic group; n is 0 or 1; and R is a hydrogen atom, a C1-12 alkyl group, or a group represented by general formula (2): Rf2-CsH2s-CH(OH)-CtH2t- (2) (wherein Rf2 is a C1-6 perfluoroalkyl group; and s and t are each independently an integer of 1 to 6).
(FR)Cette invention concerne un composé fluoré de formule générale (1), qui présente un excellent effet réducteur de tension superficielle, bien que ce composé fluoré soit du type faiblement polluant, un matériau fluoré ne contenant pas de groupe perfluoroalkyle à longueur de chaîne de 8 ou plus, ledit groupe perfluoroalkyle étant responsable des problèmes associés avec le sulfonate de perfluorooctane (SPFO) et l'acide perfluoroctanoïque (APFO). L'invention concerne également un tensioactif fluoré, des compositions contenant le tensioactif fluoré, et une émulsion aqueuse de résine et une composition de polissage contenant chacune le tensioactif fluoré. Rf1-CpH2p-CH(OH)-CqH2q-NR-CrH2r-(O)n-SO3M (1) Dans la formule générale (1), Rf1 est un groupe perfluoroalkyle en C1-6 ; p, q et r sont chacun indépendamment un nombre entier de 1 à 6 ; M est un atome cationique ou un groupe atomique ; n vaut 0 ou 1 ; et R est un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1-12, ou un groupe de formule générale (2) : Rf2-CsH2s-CH(OH)-CtH2t- (2) (Rf2 étant un groupe perfluoroalkyle C1-6 ; et s et t sont chacun indépendamment un nombre entier de 1 à 6).
(JA) PFOS・PFOA問題の要因となる鎖長8以上のパーフルオロアルキル基を有さず環境負荷の低いフッ素系材料を用いるにも関わらず、優れた表面張力低下能を有する下式(1)で表される含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤、その組成物、該含フッ素界面活性剤を含有する水性樹脂エマルジョンおよびフロアポリッシュ組成物の提供。 Rf-C2p-CH(OH)-C2q-NR-C2r-(O)n-SOM(1) 式中の記号は以下の意味を示す。 Rf:炭素数1~6のパーフルオロアルキル基。p、qおよびr:相互に独立して、1~6の整数。M:陽イオン性の原子または原子団。n:0または1。R:水素原子、炭素数1~12のアルキル基、または下式(2)で表される基。 Rf-C2s-CH(OH)-C2t- (2) Rf:炭素数1~6のパーフルオロアルキル基。sおよびt:相互に独立して、1~6の整数。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)