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1. (WO2011013611) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ANTIREFLECTION FILM AND ANTIREFLECTIVE HARD COATING FILM WHICH ARE PRODUCED USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/013611    International Application No.:    PCT/JP2010/062511
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 26.07.2010
IPC:
C08F 290/06 (2006.01), C08J 7/04 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
Applicants: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 11-2, Fujimi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1028172 (JP) (For All Designated States Except US).
YAHAGI Yoshiyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KARINO Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YAHAGI Yoshiyuki; (JP).
KARINO Hirokazu; (JP)
Agent: IWASE Yoshikazu; Anderson Mori & Tomotsune, Izumi Garden Tower, 6-1, Roppongi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1066036 (JP)
Priority Data:
2009-176524 29.07.2009 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ANTIREFLECTION FILM AND ANTIREFLECTIVE HARD COATING FILM WHICH ARE PRODUCED USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ET FILM ANTIREFLET ET FILM DE REVÊTEMENT DUR ANTIREFLET QUI SONT PRODUITS AU MOYEN DE CELLE-CI
(JA) 感光性樹脂組成物、それを用いた反射防止フィルム及び反射防止ハードコートフィルム
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition which can be easily cured by means of active energy rays. The photosensitive composition can provide a cured product which exhibits high hardness, and excellent scratch resistance, adhesion, chemical resistance, stain resistance (such as removability of marker pen ink or fingerprints by rubbing), and transparency, and which has a low refractive index. Further, an antireflection film produced using the photosensitive resin composition exhibits a low reflectivity. Also provided are an antireflection film and an antireflective hard coating film, which have films prepared by curing the resin composition. A photosensitive resin composition which comprises (A) a polyfunctional (meth)acrylate having at least three (meth)acryloyl groups in the molecule, (B) colloidal silica that has a nanoporous structure with a mean particle diameter of 1 to 200 nm, and (C) a (meth)acryloyl-containing polysiloxane, and (D) a photo-radical polymerization initiator.
(FR)La présente invention a pour objet une composition de résine photosensible qui peut être facilement durcie au moyen de rayonnements d'énergie active. La composition photosensible peut fournir un produit durci qui présente une dureté élevée, et d'excellentes résistance aux rayures, adhérence, résistance chimique, résistance aux taches (telle que la facilité d'enlèvement d'une encre de stylo marqueur ou de traces de doigts par frottage), et transparence, et qui possède un faible indice de réfraction. En outre, un film antireflet produit au moyen de la composition de résine photosensible présente une faible réflectivité. La présente invention concerne également un film antireflet et un film de revêtement dur antireflet, qui contiennent des films préparés par durcissement de la composition de résine. La présente invention concerne également une composition de résine photosensible qui comprend (A) un (méth)acrylate polyfonctionnel ayant au moins trois groupes (méth)acryloyle dans la molécule, (B) de la silice colloïdale qui possède une structure nanoporeuse avec un diamètre moyen des particules de 1 à 200 nm, et (C) un polysiloxane contenant un (méth)acryloyle, et (D) un initiateur de polymérisation photo-radicalaire.
(JA)【課題】活性エネルギー線によって容易に硬化し、高硬度、耐擦傷性、密着性、耐薬品性、マジック拭取り性や指紋拭取り性等の耐汚染性及び透明性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有する反射防止フィルムや反射防止ハードコートフィルムを提供する。 【解決手段】分子内に少なくとも3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート(A)、平均粒子径が1~200ナノメートルのナノポーラス構造を有するコロイダルシリカ(B)、(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン(C)及び光ラジカル重合開始剤(D)を含有する感光性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)