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1. (WO2011013311) ION MILLING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/013311    International Application No.:    PCT/JP2010/004555
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 14.07.2010
IPC:
H01J 37/09 (2006.01), G01N 1/28 (2006.01), G01N 1/32 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01), H01J 37/31 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (For All Designated States Except US).
KANEKO, Asako [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MUTO, Hirobumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAMINO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KANEKO, Asako; (JP).
MUTO, Hirobumi; (JP).
KAMINO, Atsushi; (JP)
Agent: INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2009-177184 30.07.2009 JP
Title (EN) ION MILLING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE
(JA) イオンミリング装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a shield (8, 10) disposed between an ion source (1) of an ion milling device and a sample (7) so as to be in contact with the sample. The shield is characterized by having a circular shape having an opening at the center, and by being capable of rotating about an axis (11) extending through the opening. Further, a groove is provided in the ion source-side surface of an end portion of the shield, and an inclined surface is provided on an end portion of the shield. Thus, an ion milling device having a shield, wherein the maximum number of machining operations can be increased, and the position of the shield can be accurately adjusted.
(FR)L'invention porte sur un bouclier (8,10) agencé entre une source d'ions (1) d'un dispositif de gravure ionique et un échantillon (7) de façon à être en contact avec l'échantillon. Le bouclier est caractérisé en ce qu'il présente une forme circulaire ayant une ouverture au centre, et en ce qu'il est capable de tourner autour d'un axe (11) passant par l'ouverture. En outre, une rainure est formée dans la surface côté source d'ions d'une partie d'extrémité du bouclier, et une surface inclinée est formée sur une partie d'extrémité du bouclier. Le dispositif de gravure ionique obtenu comprend donc un bouclier, dans lequel le nombre maximal d'opérations d'usinage peut être accru, et la position du bouclier peut être précisément ajustée.
(JA) 本発明は、イオンミリング装置のイオン源(1)と試料(7)の間であって試料に接触する位置に配置される遮蔽板(8;10)であって、前記遮蔽板は、中心に開口を有する円形であり、前記開口を通る軸(11)に対して回転することができることを特徴とする。 そして、前記遮蔽板の端部の前記イオン源側の面には溝を設け、さらに、前記遮蔽板の端部には傾斜面を設けた。 これにより、加工可能回数を増やし、遮蔽板位置調整を精度良く行えることのできる遮蔽板を有するイオンミリング装置を提供することが可能になった。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)