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1. (WO2011012475) COMPOSITION FOR METAL PLATING COMPRISING SUPPRESSING AGENT FOR VOID FREE SUBMICRON FEATURE FILLING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/012475    International Application No.:    PCT/EP2010/060375
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 19.07.2010
IPC:
C25D 3/38 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), C25D 3/02 (2006.01), C25D 3/40 (2006.01)
Applicants: BASF SE [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (For All Designated States Except US).
RÖGER-GÖPFERT, Cornelia [DE/DE]; (DE) (For US Only).
RAETHER, Roman Benedikt [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAYER, Dieter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HAAG, Alexandra [DE/DE]; (DE) (For US Only).
EMNET, Charlotte [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: RÖGER-GÖPFERT, Cornelia; (DE).
RAETHER, Roman Benedikt; (DE).
MAYER, Dieter; (DE).
HAAG, Alexandra; (DE).
EMNET, Charlotte; (DE)
Common
Representative:
BASF SE; 67056 Ludwigshafen (DE)
Priority Data:
61/229,809 30.07.2009 US
Title (EN) COMPOSITION FOR METAL PLATING COMPRISING SUPPRESSING AGENT FOR VOID FREE SUBMICRON FEATURE FILLING
(FR) COMPOSITION POUR MÉTALLISATION COMPRENANT UN AGENT SUPPRESSEUR POUR REMPLISSAGE DE CARACTÉRISTIQUE SUBMICRONIQUE SANS VIDE
Abstract: front page image
(EN)A composition comprising at least one source of metal ions and at least one additive obtainable by reacting a polyhydric alcohol comprising at least 5 hydroxyl functional groups with at least a first alkylene oxide and a second alkylene oxide from a mixture of the first alkylene oxide and the second alkylene oxide or a third alkylene oxide, a second alkylene oxide, and a first alkylene oxide in aforesaid sequence, the third alkylene oxide having a longer alkyl chain than the second alkylene oxide and the second alkylene oxide having a longer alkyl chain than the first alkylene oxide.
(FR)La composition de la présente invention comprend au moins une source d'ions métalliques et au moins un adjuvant. Ledit adjuvant peut être obtenu par réaction d'un polyalcool comprenant au moins 5 groupes fonctionnels hydroxyle, avec au moins un premier oxyde d'alkylène et un deuxième oxyde d'alkylène d'un mélange du premier oxyde d'alkylène et du second oxyde d'alkylène ou un troisième oxyde d'alkylène, un deuxième oxyde d'alkylène et un premier oxyde d'alkylène dans cet ordre, le troisième oxyde d'alkylène ayant une chaîne alkyle plus longue que celle du deuxième oxyde d'alkylène et le deuxième oxyde d'alkylène ayant une chaîne alkyle plus longue que celle du premier oxyde d'alkylène.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)